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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1998-0040970 (1998-09-30) |
공개번호 | 10-2000-0021721 (2000-04-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980040970 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 세정과 식각을 위한 웨트 스테이션(wet station)에서 용액조의 약액을 순환시키는 약액 순환 시스템에 관한 것으로서, 약액이 담겨져 웨이퍼의 표면처리가 일어나는 내조와 그 내조로 약액이 넘쳐 흐르도록 형성된 외조를 구비하는 화학 처리조와, 내조와 배관으로 연결되어 그 내조로부터 배출되는 약액을 정화시키는 필터, 그 필터와 배관으로 연결되어 필터로부터 배출되는 정화된 약액을 외조로 배관을 통하여 공급하는 펌프를 갖는 것을 특징으로 한다. 이에 따르면, 내조의 밑바닥 부분으로 배출되는 구조에 의해 종래의 약액 순환 시스
약액이 담겨져 웨이퍼의 표면처리가 일어나는 내조와 상기 내조로 약액이 넘쳐 흐르도록 형성된 외조를 구비하는 화학 처리조와, 상기 내조와 배관으로 연결되어 그 내조로부터 배출되는 약액을 정화시키는 필터, 및 상기 필터와 배관으로 연결되어 필터로부터 배출되는 정화된 약액을 상기 외조로 배관을 통하여 공급하는 펌프를 갖는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션의 약액 순환 시스템.
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