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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1999-0048747 (1999-11-05) |
공개번호 | 10-2001-0045452 (2001-06-05) |
등록번호 | 10-0352080-0000 (2002-08-27) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019990048747 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1999-11-05) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체에 사용되는 불소계 에칭용액 제조시에 발생되는 불화수소산 및/또는 불화암모늄을 함유하는 폐수로부터 고순도의 불화금속화합물을 제조하는 방법에 관한 것으로, 본 발명의 방법에 따르면, 에칭용액 제조시에 부생되는 불화수소산(HF), 불화암모늄(NH4F) 등을 함유하는 폐수를 이용하여 산업적으로 유용한 불화물인 LiF, LiBF4, CoF2, MgF2, LiBF4, CaF2 등을 고순도로 제조할 수 있다.
불소계 에칭용액 제조시에 발생되는 불화수소산 및/또는 불화암모늄을 함유하는 폐수를, LiOH, LiCl, Li2CO3, H3BO3, CoSO4, MgCO3, Mg(OH)2, MgCl2, CaCO3, CaCl2 및 Ca(OH)2으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속원과 25 내지 100℃에서, 10분 내지 2시간 동안 반응시킨 후, 생성된 침전물을 여과하고 건조시켜 불화금속염을 제조하는 방법.
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