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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-1999-0056878 (1999-12-11) |
| 공개번호 | 10-2001-0055632 (2001-07-04) |
| 등록번호 | 10-0525730-0000 (2005-10-26) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1019990056878 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2003-02-13) |
| 심사진행상태 | 등록결정(심사전치후) |
| 법적상태 | 소멸 |
본 발명은 공정 시간을 단축시킴과 아울러 식각 작업시의 패턴 불량을 효율적으로 방지할 수 있도록 한 습식 식각 장비 및 습식 식각 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 습식 식각 장비 내에서 기판이 로딩되는 로딩부의 소정 영역에 설치된 자외선 세정부로 포토 레지스트 마스크 패턴이 형성된 기판을 전송하고, 자외선 세정부에서 기판 상에 엑시머 자외선을 조사하여 기판 상의 이물들을 제거한 다음 이물이 제거된 기판을 에칭부로 전송하여 식각 작업을 실시한다. 본 발명에 의하면, 기판 상의 이물 제거 작업과 식각 작업이 한 장비 내에서 연속
포토 레지스트 마스크 패턴이 형성된 기판이 로딩되는 로딩부와, 상기 기판의 식각 작업이 이루어지는 에칭부를 구비하는 습식 식각 장비에 있어서,상기 로딩된 기판에 엑시머 자외선을 조사하여 상기 기판 상에 잔존하는 이물을 제거하는 자외선 세정부와,상기 로딩부에 로딩된 기판을 상기 자외선 세정부로 전송함과 아울러 상기 자외선 세정부에서 이물이 제거된 기판을 상기 에칭부로 전송하는 컨베이어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식 식각 장비.
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