초록

본 발명은 반도체 소자 제조장치인 챔버내에 설치되어, 그 상부에 장착되는 웨이퍼의 지지 및 온도의 제어역할을 하는 정전척(electro static chuck)과, 상기 정전척이 결합되는 테이블에 관한 것으로, 200mm의 지름을 가지는 일반적인 웨이퍼 및 300mm의 지름을 가지는 대면적 웨이퍼의 처리공정에 모두 호환 적용이 가능한 하나의 테이블과, 상기 테이블에 결합되는, 목적하는 웨이퍼의 크기에 따라 구별되는 200mm 웨이퍼용 정전척과, 300mm 웨이퍼용 정전척을 각각 제공하여 보다 개선된 반도체 제조공정을 가능케 한다.

대표청구항 ▼

서로 다른 제 1 사이즈 또는 제 2 사이즈를 가진 웨이퍼를 고정하고, 상부로 돌출된 복수개의 봉과 복수개의 관을 가진 테이블 상부에서 상기 웨이퍼를 고정하기 위하여 상단과 하단이 서로 다른 외주를 갖는 정전척으로서,상단의 외주 크기는 상기 제 1 사이즈 또는 제 2 사이즈의 웨이퍼의 크기와 대응되고, 하단의 외주 크기는 상기 테이블과 일치하면서, 상기 테이블의 복수개의 돌출된 봉과 돌출된 관이 각각 끼워질 수 있는 통로가 형성되어 있고, 상기 테이블위에 탈착가능하도록 고정된 정전척청구항 1에 있어서,상기 다수개의 돌출된 관은 각

서로 다른 제 1 사이즈 또는 제 2 사이즈를 가진 웨이퍼를 고정하고, 상부로 돌출된 복수개의 봉과 복수개의 관을 가진 테이블 상부에서 상기 웨이퍼를 고정하기 위하여 상단과 하단이 서로 다른 외주를 갖는 정전척으로서,상단의 외주 크기는 상기 제 1 사이즈 또는 제 2 사이즈의 웨이퍼의 크기와 대응되고, 하단의 외주 크기는 상기 테이블과 일치하면서, 상기 테이블의 복수개의 돌출된 봉과 돌출된 관이 각각 끼워질 수 있는 통로가 형성되어 있고, 상기 테이블위에 탈착가능하도록 고정된 정전척청구항 1에 있어서,상기 다수개의 돌출된 관은 각각 냉각수관과 헬륨관인 정전척 청구항 2에 있어서,상기 각각의 관이 끼워지는 상기 정천적의 하단에 형성된 통로입구에위치한 탄력을 가진 원형링을 더욱 포함하는 정전척청구항 3에 있어서,상기 원형링은 제 1 원형링과, 상기 제 1 원형링의 내부에 중첩형성된 제 2 원형링을 가지는 정전척청구항 3 또는 청구항 4 중 하나의 항에 있어서,상기 원형링은 고무재질로 이루어진 정전척청구항 1에 있어서,상기 돌출된 복수개의 봉은 각각 RF전압과 DC전압이 인가되는 봉인 정전척청구항 1에 있어서,상기 테이블은 가장자리에 복수개의 수직방향의 홀을 가지고 있으며,상기 정천적의 가장자리에 상기 테이블의 홀과 대응되어 수직방향으로 관통하는 홀이 형성되어 있으며,상기 정전척의 홀과 상기 테이블의 홀을 관통하는 핀을 더욱 포함하는 정전척