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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2002-0018958 (2002-04-08) |
공개번호 | 10-2003-0080370 (2003-10-17) |
등록번호 | 10-0442452-0000 (2004-07-21) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020020018958 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2002-04-08) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명에서는, 얻고자 하는 패턴물질로 이루어진 물질층과, 물질층 상부에 위치하며, 사진식각 공정에 의해 일정패턴을 가지는 PR(photo resist)패턴이 형성된 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식식각 공정장비에 있어서, 서로 일정간격 이격되게 배치된 상부 및 하부 케이스와; 상기 상부 케이스 내부면에 위치하며, 에천트 용액을 분사시키는 다수 개의 노즐과; 상기 상부 및 하부 케이스 사이 구간에 위치하며, 상기 기판을 반송 및 이송시키는 제 1, 2 셔터부와; 상기 상부 케이스 내부면에 위치하며, 상기 셔터부와 인접한 상부 케
얻고자 하는 패턴물질로 이루어진 물질층과, 물질층 상부에 위치하며, 사진식각 공정에 의해 일정패턴을 가지는 PR(photo resist)패턴이 형성된 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식식각 공정장비에 있어서, 서로 일정간격 이격되게 배치된 상부 및 하부 케이스와; 상기 상부 케이스 내부면에 위치하며, 에천트 용액을 분사시키는 다수 개의 노즐과; 상기 상부 및 하부 케이스 사이 구간에 위치하며, 상기 기판을 반송 및 이송시키는 제 1, 2 셔터부와; 상기 상부 케이스 내부면에 위치하며, 상기 셔터부와 인접한 상부 케이스 내벽에 고압
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