초록 ▼

본 발명은 고 순도의 삼불화 질소(NF3) 가스를 제조하는 방법, 더욱 상세하게는 삼불화 질소 가스 반응 합성 결과 생성된 NF3 합성 가스로부터 가스내에 포함된 HF, N2F2, OF2 등의 불순물 및 수분을 효과적으로 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 이불화 산소(OF2)를 포함한 각종 불순물과 수분의 제거 효율이 현격히 향상되고, 또한 응축 공정 이후 흡착 공정을 수행하는 2차에 걸친 수분 처리 공정에 의해 합성 가스내에 포함된 수분까지 거의 완벽하게 제거함으로써, 고 순도 고

본 발명은 고 순도의 삼불화 질소(NF3) 가스를 제조하는 방법, 더욱 상세하게는 삼불화 질소 가스 반응 합성 결과 생성된 NF3 합성 가스로부터 가스내에 포함된 HF, N2F2, OF2 등의 불순물 및 수분을 효과적으로 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 이불화 산소(OF2)를 포함한 각종 불순물과 수분의 제거 효율이 현격히 향상되고, 또한 응축 공정 이후 흡착 공정을 수행하는 2차에 걸친 수분 처리 공정에 의해 합성 가스내에 포함된 수분까지 거의 완벽하게 제거함으로써, 고 순도 고 품질의 NF3 가스를 제공할 수 있으며, 따라서 반도체 세정 효과의 향상 등 삼불화 질소를 사용하는 다양한 분야에서 여러 가지 효과를 기대할 수 있다.

대표청구항 ▼

불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스로부터 상기 불순물 및 수분을 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 있어서,(a) 불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스를 KOH 수용액으로 처리하여 합성 가스내 HF를 중화 반응에 의해 KF 염 형태로 전환, 제거하는 단계,(b) 이후, 상기 NF3 합성 가스를 240℃ 내지 300℃의 온도에서 열분해 반응시켜 N2F2를 질소와 불소 가스로 분해, 제거하

불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스로부터 상기 불순물 및 수분을 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 있어서,(a) 불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스를 KOH 수용액으로 처리하여 합성 가스내 HF를 중화 반응에 의해 KF 염 형태로 전환, 제거하는 단계,(b) 이후, 상기 NF3 합성 가스를 240℃ 내지 300℃의 온도에서 열분해 반응시켜 N2F2를 질소와 불소 가스로 분해, 제거하는 단계,(c) 상기 NF3 합성 가스에, 환원제로서 K2S2O3를 사용하여 OF2 및 F2를 환원, 제거하는 단계,(d) 에틸렌글리콜계 냉매를 사용하여 빙점에서 응축시켜 상기 NF3 합성 가스중에 존재하는 수분을 1차 제거하는 단계,(e) 수분 흡착제로서 제올라이트를 사용하여 -80℃ 이하의 온도에서 상기 NF3 합성 가스내 수분을 2차 제거하는 단계,(f) 흡착제로서 분자체(molecular sieve)를 사용하여 실온에서 상기 NF3 합성 가스중에 존재하는 미량의 N2O, CO2 및 SO2F2를 제거하는 단계, 및(g) 상기 단계들에 의해 발생된 N2 및 O2 가스는 배기하고, NF3 가스는 응축시켜 고 순도의 NF3 가스를 수득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.