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고순도 삼불화질소 제조용 전해조 및 삼불화질소의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C25B-001/24
출원번호 10-2001-0049536 (2001-08-17)
공개번호 10-2003-0015667 (2003-02-25)
등록번호 10-0541978-0000 (2006-01-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020010049536
발명자 / 주소
  • 이장원 / 경기도군포시산본동금강아파트***동****호
  • 박용철 / 서울특별시서초구반포본동****반포아파트**동***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 효성 / 서울특별시 마포구 공덕동 ***번지
대리인 / 주소
  • 박희섭 (PARK, Hee-Seop)
  • 서울 강남구 역삼동 ***-** 은탑타워빌딩 *층(에이블특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2003-12-26)
심사진행상태 등록취소(이의신청에의한)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 고순도 삼불화질소(NF3) 제조용 전해조 및 삼불화질소(NF3)의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 전해조는 Ni 전극을 사용하고 전기분해를 통한 용융염 NH4F.HF 혹은 KF-NH4F-HF계에서 ① 전해조 몸체, ② 불소수지로 코팅된 바닥면, ③ 불소수지로 코팅된 분리판, ④ 전해질, ⑤ Ni anode, ⑥ Ni cathode, ⑦ anode 연결봉, ⑧ cathode 연결봉, ⑨ 생성된 NF3 배출구, ⑩ 생성된 H2 배출구, ⑪ 전해조 덮개, ⑫ 냉각관을 포함하며, 본 발명의 제조방법은 본 발명의 전해조에서

대표청구항

Ni 전극을 사용하고 전기분해를 통한 용융염 NH4F.HF 혹은 KF-NH4F-HF계에서 ① 전해조 몸체, ② 불소수지로 코팅된 바닥면, ③ 불소 수지로 코팅된 분리판, ④ 전해질, ⑤ Ni anode, ⑥ Ni cathode, ⑦ anode 연결봉, ⑧ cathode 연결봉, ⑨ 생성된 NF3 배출구, ⑩ 생성된 H2 배출구, ⑪ 전해조 덮개, ⑫ 냉각관을 포함하는 것을 특징으로 하는 삼불화질소(NF3) 제조용 전해조.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [일본] PRODUCTION OF NITROGEN TRIFLUORIDE | YOSHINO TADASHI, KAMATA HIDEO, SHINOZAKI TAKEKI
  2. [일본] PRODUCTION OF COMPOSITE ELECTRODE AND NITROGEN TRIFLUORIDE GAS USING THE ELECTRODE | TASAKA AKIMASA, ARITSUKA MAKOTO, IWANAGA TOKUYUKI, MITSUMOTO ATSUHISA
  3. [한국] 전해 조 | 이와나가나루유끼, 야마구찌도시아끼, 후지에다노부히꼬, 쓰지가와요시히로

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 기화되는 불산을 최소화한 고순도 삼불화질소 제조용전해조 및 이를 이용한 삼불화 질소의 제조방법 | 이장원, 박용철
  2. [한국] 내구성이 향상된 금속전극 및 이의 제조방법 | 이장원, 이수철, 오태석, 이은구, 김원균, 이상진
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