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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0049536 (2001-08-17) |
공개번호 | 10-2003-0015667 (2003-02-25) |
등록번호 | 10-0541978-0000 (2006-01-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010049536 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2003-12-26) |
심사진행상태 | 등록취소(이의신청에의한) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 고순도 삼불화질소(NF3) 제조용 전해조 및 삼불화질소(NF3)의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 전해조는 Ni 전극을 사용하고 전기분해를 통한 용융염 NH4F.HF 혹은 KF-NH4F-HF계에서 ① 전해조 몸체, ② 불소수지로 코팅된 바닥면, ③ 불소수지로 코팅된 분리판, ④ 전해질, ⑤ Ni anode, ⑥ Ni cathode, ⑦ anode 연결봉, ⑧ cathode 연결봉, ⑨ 생성된 NF3 배출구, ⑩ 생성된 H2 배출구, ⑪ 전해조 덮개, ⑫ 냉각관을 포함하며, 본 발명의 제조방법은 본 발명의 전해조에서
Ni 전극을 사용하고 전기분해를 통한 용융염 NH4F.HF 혹은 KF-NH4F-HF계에서 ① 전해조 몸체, ② 불소수지로 코팅된 바닥면, ③ 불소 수지로 코팅된 분리판, ④ 전해질, ⑤ Ni anode, ⑥ Ni cathode, ⑦ anode 연결봉, ⑧ cathode 연결봉, ⑨ 생성된 NF3 배출구, ⑩ 생성된 H2 배출구, ⑪ 전해조 덮개, ⑫ 냉각관을 포함하는 것을 특징으로 하는 삼불화질소(NF3) 제조용 전해조.
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