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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0104179 (2008-10-23) |
공개번호 | 10-2009-0069134 (2009-06-29) |
등록번호 | 10-0990074-0000 (2010-10-20) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080104179 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-10-23) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
경사 노광 리소그래피 시스템이 개시된다. 경사 노광 리소그래피 시스템은 기판; 기판 상에 형성되는 포토레지스트 층; 포토레지스트 층과 간격을 형성하면서 포토레지스트 층 상에 배치되는 마스크; 및 광원으로부터의 광선이 소정의 각도로 굴절되도록 마스크 상에 배치되는 굴절 요소를 포함한다.
광학 필름을 형성하기 위한 경사 노광 리소그래피 시스템으로,기판;상기 기판 상에 형성되는 포토레지스트 층;상기 포토레지스트 층과 간격을 형성하면서 상기 포토레지스트 층 상에 배치되는 마스크; 및광원으로부터의 광선이 소정의 각도로 굴절되도록 상기 마스크 상에 배치되는 굴절 요소를 포함하는 경사 노광 리소그래피 시스템.
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