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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0049441 (2003-07-18) |
공개번호 | 10-2005-0009632 (2005-01-25) |
등록번호 | 10-0564431-0000 (2006-03-20) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030049441 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2003-09-08) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 보조패턴(ASSISTANT BAR)의 효과를 내면서 검사 및 패턴 정의 상의 문제도 함께 해결하느 방법을 보여 줄 수 있는 수정 식각을 이용한 위상 전이 마스크의 제작방법을 제공하는 것이다. 수정 식각을 이용한 위상 전이 마스크의 제작방법수정으로 이루어진 기판을 베이스로 준비하는 단계와, 베이스를 식각하여 보조패턴을 형성하는 단계와, 보조패턴이 형성된 베이스에 메인 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
수정으로 이루어진 기판을 베이스로 준비하는 단계와, 상기 베이스를 식각하여 보조패턴을 형성하는 단계와, 상기 보조패턴이 형성된 베이스에 메인 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 수정 식각을 이용한 위상 전이 마스크의 제작방법.
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