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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0077354 (2003-11-03) |
공개번호 | 10-2005-0042586 (2005-05-10) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030077354 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-10-08) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 금속증착 공정의 화학기상증착 챔버내에서 웨이퍼가 안착되는 히터블록을 관통하여 일정간격으로 복수개 구비되어 안착되는 웨이퍼의 저면에 접촉하여 받쳐 지지하는 리프트핀의 타측 하단부를 지지하면서 리프트핀을 승하강시키는 링형태의 리프트핀 플레이트에 관한 것으로, 리프트핀과 동일하게 전체가 세라믹재질로 이루어지고, 평탄한 상면을 통해 리프트핀의 하단부를 직접 접촉하면서 지지함으로써, 리프트핀과 웨이퍼의 깨짐을 방지하여 장비의 다운을 줄일 수 있어 생산성을 향상시키는 것을 특징으로 한다.
금속증착 공정의 화학기상증착 챔버내에서 웨이퍼가 안착되는 히터블록을 관통하여 일정간격으로 복수개 구비되어 상기 웨이퍼의 저면에 접촉하여 받쳐 지지하는 리프트핀의 타측 하단부를 지지하면서 리프트핀을 승하강시키는 링형태의 리프트핀 플레이트에 있어서, 상기 리프트핀과 동일한 세라믹재질로 이루어지고, 평탄한 상면을 통해 상기 리프트핀의 하단부를 직접 접촉하면서 지지하는 것을 특징으로 하는 리프트핀 플레이트.
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