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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0000233 (2004-01-05) |
공개번호 | 10-2005-0071860 (2005-07-08) |
등록번호 | 10-0526923-0000 (2005-11-01) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040000233 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-01-05) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 화학기상증착(CHEMICAL VAPOR DEPOSITION)을 이용하여 웨이퍼에 금속층을 증착할 시 리프트 핀에 알루미늄의 증착을 억제하는 반도체 제조설비의 리프트 핀 및 그 제조방법에 관한 것이다. CVD장치에서 공정진행 중에 CVD AL이 증착되지 않도록 하여 웨이퍼 브로큰이나 리프트핀의 파손을 방지하는 본 발명의 반도체 제조설비의 리프트핀은, SUS재질로 형성된 리프트핀을 설정된 온도에서 설정된 시간동안 산화시켜 CVD공정 진행 중에 CVD 알루미늄이 증착되지 않도록 한다.
반도체 제조설비의 리프트핀에 있어서, 스텐렌스재질로 형성된 리프트핀을 설정된 온도에서 설정된 시간동안 산화시켜 CVD공정 진행 중에 알루미늄이 증착되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 리프트핀.
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