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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2005-0039162 (2005-05-11) |
공개번호 | 10-2005-0053559 (2005-06-08) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050039162 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2005-05-11) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 LCD 또는 반도체 제조공정에서 배출되는 에칭폐액에서 추출제를 사용하여 초산과 질산 및 몰리브덴(MO)을 추출하고 남은 인산을 재사용하는, 에칭폐액으로부터의 용매추출법을 통한 "초산과 질산 및 몰리브덴의 추출공정"에 관한 것이다.본 발명에 따른 추출제를 통한 "초산과 질산 및 몰리브덴의 추출공정"에서는 "알킬포스포닉산(ALKYL-PHOSPHONIC ACIDS) 또는 알킬포스피닉산(ALKYL-PHOSPHINIC ACIDS)"을 사용하여 초산과 질산 및 몰리브덴(MO)을
각종 산과 금속의 혼합물로 이루어진 에칭폐액에서 몰리브덴을 추출하기 위하여 "알킬포스포닉산(ALKYL-PHOSPHONIC ACIDS) 또는 알킬포스피닉산(ALKYL-PHOSPHINIC ACIDS)"을 추출제로 사용하고, 이의 희석제로 알킬벤젠의 탄소수가 C8 내지 C14인 솔베소(SOLVESSO) 150, 솔베소 100, 등유(KEROSENE) 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 희석제를 사용하여,추출제와 희석제가 혼합된 유기상을 소정의 농도비가 되도록 접촉시키고, 균일하게 교반한 다음 정치하여 각종 산과 금
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