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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2005-0073875 (2005-08-11) |
공개번호 | 10-2007-0019884 (2007-02-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050073875 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체 기판 제조를 위한 처리과정에서 발생되는 폐액(廢液)을 회수하여 재사용하기 위한 반도체 공정에서의 폐액 처리 시스템 및 그 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폐액 시스템은 약액을 공급받아 혼합액을 생성하는 혼합 탱크 및 처리 장치로부터 회수 라인을 통해 폐액을 회수하여 이를 저장하는 회수 탱크를 포함하는 멀티 탱크, 상기 혼합 탱크에 저장된 혼합액을 순환시키는 제 1 순환 라인, 상기 혼합 탱크로부터 공급받은 혼합액을 저장하는 저장 탱크, 그리고 상기 저장 탱크로부터 상기 처리 장치로 혼합액을 공급하는 공급 라인
반도체 기판 처리 장치로부터 배출되는 폐액을 회수하기 위한 시스템에 있어서:약액을 공급받아 혼합액을 생성하는 혼합 탱크 및 처리 장치로부터 회수 라인을 통해 폐액을 회수하여 이를 저장하는 회수 탱크를 포함하는 멀티 탱크와|상기 혼합 탱크에 저장된 혼합액을 순환시키는 제 1 순환 라인과|상기 혼합 탱크로부터 공급받은 혼합액을 저장하는 저장 탱크와|상기 저장 탱크로부터 상기 처리 장치로 혼합액을 공급하는 공급 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 폐액 처리 시스템.제 1 항에 있어서,상기 제 1 순환 라인은,상기 혼합
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