초록 ▼

본 발명은 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치에 관한 것으로서, 해결하고자 하는 기술적 과제는 연소 챔버의 내벽에 소정 압력을 갖는 가스 펄스파를 제공하여, 연소 챔버의 내벽에 반도체 제조 공정중 발생되며 강제 연소되어 형성된 각종 파우더가 침적(沈積)되지 않도록 하는데 있다.이를 위해 본 발명에 의한 해결 방법의 요지는 반도체 제조 공정중 생성된 폐가스가 유입되는 동시에, 폐가스를 연소하는 버너와, 버너가 결합된 동시에, 버너에 의해 폐가스가 연소됨으로써 생성된 파우더가 하부로 낙하하는 연소 챔버로 이루어진 반도체

본 발명은 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치에 관한 것으로서, 해결하고자 하는 기술적 과제는 연소 챔버의 내벽에 소정 압력을 갖는 가스 펄스파를 제공하여, 연소 챔버의 내벽에 반도체 제조 공정중 발생되며 강제 연소되어 형성된 각종 파우더가 침적(沈積)되지 않도록 하는데 있다.이를 위해 본 발명에 의한 해결 방법의 요지는 반도체 제조 공정중 생성된 폐가스가 유입되는 동시에, 폐가스를 연소하는 버너와, 버너가 결합된 동시에, 버너에 의해 폐가스가 연소됨으로써 생성된 파우더가 하부로 낙하하는 연소 챔버로 이루어진 반도체 폐가스 처리용 스크러버에 있어서, 연소 챔버에는 소정 압력의 가스를 제공하여, 연소 챔버의 내벽에 파우더가 침적되지 않도록 하는 파우더 제거용 가스 공급부가 더 형성된 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치가 개시된다.

대표청구항

반도체 제조 공정중 생성된 폐가스가 유입되는 동시에, 상기 폐가스를 연소하는 버너와, 상기 버너가 결합된 동시에, 상기 버너에 의해 폐가스가 연소됨으로써 생성된 파우더가 하부로 낙하하는 연소 챔버로 이루어진 반도체 폐가스 처리용 스크러버에 있어서,상기 연소 챔버에는 소정 압력의 가스를 제공하여, 상기 연소 챔버의 내벽에 파우더가 침적되지 않도록 하는 파우더 제거용 가스 공급부가 더 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치.

반도체 제조 공정중 생성된 폐가스가 유입되는 동시에, 상기 폐가스를 연소하는 버너와, 상기 버너가 결합된 동시에, 상기 버너에 의해 폐가스가 연소됨으로써 생성된 파우더가 하부로 낙하하는 연소 챔버로 이루어진 반도체 폐가스 처리용 스크러버에 있어서,상기 연소 챔버에는 소정 압력의 가스를 제공하여, 상기 연소 챔버의 내벽에 파우더가 침적되지 않도록 하는 파우더 제거용 가스 공급부가 더 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치.