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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1997-0030088 (1997-10-29) |
공개번호 | 20-1999-0016635 (1999-05-25) |
등록번호 | 20-0177311-0000 (2000-01-22) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019970030088 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1997-10-29) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 고안은 반도체 제조장비의 파우더 제거장치에 관한 것으로, 종래에는 프로세스 챔버에 가스를 공급하는 가스라인의 절곡부위에 파우더가 형성되었고 이를 제거하기 위해서는 가스라인을 분리한 후 웨트 크리닝과 베이킹을 하여야 했기 때문에 이에 소요되는 인력 및 시간의 소모가 많은 단점이 있었던바, 본 고안의 반도체 증착장비의 파우더 제거장치는 파우더와 반응하는 래디칼을 가스라인에 공급하도록 래디칼 공급부를 가스라인에 연통되도록 설치함으로써, 가스라인을 분리하지 않고도 파우더를 제거할 수 있게 한 것이다.
공정이 진행되는 프로세스 챔버와, 이 프로세스 챔버에 공정가스를 유입시키는 가스라인을 구비한 반도체 제조장비에 있어서; 상기 가스라인 내 형성된 파우더와 반응하여 상기 파우더를 제거하도록 래디칼을 공급하는 래디칼 공급부가 상기 가스라인에 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 파우더 제거장치.
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