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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2006-0137149 (2006-12-28) |
| 공개번호 | 10-2008-0061940 (2008-07-03) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020060137149 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
화학적, 기계적 연마 장치(CMP 장치)의 연마 패드 상에 축적된 연마 잔류물을 효과적으로 제거할 수 있는 연마 패드 커디셔닝 디스크 및 이를 포함한 연마 패드 컨디셔너가 제공된다. 상기 연마 패드 컨디셔닝 디스크는 디스크 형상의 플레이트; 상기 플레이트의 일측면 상에 형성되어 있고, CMP 장치의 연마 패드 표면을 절삭해 균일화하는 다이아몬드 입자가 부착되어 있는 제 1 컨디셔닝부; 및 상기 플레이트의 원주 방향을 따라 상기 제 1 컨디셔닝부와 교대로 배치되게 상기 플레이트의 일측면 상에 방사상으로 형성되어 있고, 상기 연마 패드
디스크 형상의 플레이트; 상기 플레이트의 일측면 상에 형성되어 있고, CMP 장치의 연마 패드 표면을 절삭해 균일화하는 다이아몬드 입자가 부착되어 있는 제 1 컨디셔닝부; 및 상기 플레이트의 원주 방향을 따라 상기 제 1 컨디셔닝부와 교대로 배치되되록 상기 플레이트의 일측면 상에 방사상으로 형성되어 있고, 상기 연마 패드 상에 축적된 연마 잔류물을 제거하는 수지 브러쉬가 부착되어 있는 제 2 컨디셔닝부를 포함하는 연마 패드 컨디셔닝 디스크.
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