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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0255442 (2008-10-21) |
공개번호 | US-0099342 (2010-04-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
A method and apparatus for replacing a polishing pad conditioning disk is a chemical mechanical polishing system is provided. The apparatus comprises a disk load/unload station for unloading used conditioning disks from a pad conditioning assembly and loading unused conditioning disks onto the pad c
1. An apparatus for replacing a polishing pad conditioning disk in a chemical mechanical polishing system, comprising: a disk load/unload station for unloading used conditioning disks from a pad conditioning assembly and loading unused conditioning disks onto the pad conditioning assembly; one or m
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