초록 ▼

하기 화학식(Ⅰ)을 가지는 프로스타글란딘 화합물의 제조방법을 개시한다: 상기 식에서, A는 C1-C6 알킬; C7-C116 아랄킬(여기서, 아릴기는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환된다); 및 (CH2)NOR'(여기서, N은 1 내지 3이고, R'는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환되는 C6-C10 아릴기를 나타낸다)로 구성된 군 중에서 선택되고, B는 OR" 및 NHR"(여기서, R

하기 화학식(Ⅰ)을 가지는 프로스타글란딘 화합물의 제조방법을 개시한다: 상기 식에서, A는 C1-C6 알킬; C7-C116 아랄킬(여기서, 아릴기는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환된다); 및 (CH2)NOR'(여기서, N은 1 내지 3이고, R'는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환되는 C6-C10 아릴기를 나타낸다)로 구성된 군 중에서 선택되고, B는 OR" 및 NHR"(여기서, R"는 C1-C6 알킬이다)로부터 선택되고, 화학식(A)은 이중 결합 또는 단일 결합을 나타낸다. 또한 신규한 중간체를 개시한다.

대표청구항 ▼

하기 화학식(IX)의 화합물을 하기 화학식(X)의 화합물과 반응시켜서 1,4 첨가 반응을 수행하는 큐프레이트 시약을 형성하는, 하기 화학식(VIII)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 (CH2)2Ph 또는 CH2OR``````이고, 여기서, R``````은 메타 위치에서 CF3으로 치환된 페닐이며| P는 히드록실 보호기이고| 는 이중 결합 또는 단일 결합을 나타내며| X는 이탈기이다.제1항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징인 것으로 하는 방법.제1항 또는 제2항에 있어서, X는 요오드인 것을 특

하기 화학식(IX)의 화합물을 하기 화학식(X)의 화합물과 반응시켜서 1,4 첨가 반응을 수행하는 큐프레이트 시약을 형성하는, 하기 화학식(VIII)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 (CH2)2Ph 또는 CH2OR``````이고, 여기서, R``````은 메타 위치에서 CF3으로 치환된 페닐이며| P는 히드록실 보호기이고| 는 이중 결합 또는 단일 결합을 나타내며| X는 이탈기이다.제1항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징인 것으로 하는 방법.제1항 또는 제2항에 있어서, X는 요오드인 것을 특징으로 하는 방법.제1항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 는 이중 결합을 나타내며, P는 THP이고, X는 I인 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIII)의 화합물:상기 식에서, A, P 및 는 제1항에서 정의한 바와 같다.제5항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 는 이중 결합을 나타내며, P는 THP인 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIII)의 화합물을 선택적 환원시키는, 하기 화학식(VIIa)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 (CH2)2Ph 또는 CH2OR``````이고, 여기서, R``````은 메타 위치에서 CF3으로 치환된 페닐이며| P는 히드록실 보호기이고| 는 이중 결합 또는 단일 결합을 나타낸다.제7항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징으로 하는 방법.제7항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 은 이중 결합을 나타내며, P는 THP인 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIIa)의 화합물:상기 식에서, A, P 및 은 제7항에서 정의한 바와 같다.제10항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 은 이중 결합을 나타내며, P는 THP인 것을 특징으로 하는 화합물.하기 화학식(VIIa)의 화합물을 히드록실 보호기로 보호하는, 하기 화학식(VIIb)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 (CH2)2Ph 또는 CH2OR``````이고, 여기서, R``````은 메타 위치에서 CF3으로 치환된 페닐이며| P는 히드록실 보호기이고| 는 이중 결합 또는 단일 결합을 나타낸다.제12항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징으로 하는 방법.제12항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 는 이중 결합을 나타내며, P는 THP인 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIIb)의 화합물:상기 식에서 A,P 및 은 제12항에서 정의한 바와 같다.제15항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 은 이중 결합을 나타내며, P는 THP인 것을 특징으로 하는 화합물.하기 화학식(VIIa)의 화합물을 탈보호하는, 하기 화학식(VIIc)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 (CH2)2Ph 또는 CH2OR``````이고, 여기서, R``````은 메타 위치에서 CF3으로 치환된 페닐이며| P는 보호기이고| 는 이중 결합 또는 단일 결합을 나타내며| X는 이탈기이다.제17항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징으로 하는 방법.제17항 또는 제18항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 는 이중 결합을 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIIc)의 화합물:상기 식에서 A 및 는 제17항에서 정의한 바와 같다.제20항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 는 이중 결합을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.하기 화학식(VIIa)의 화합물, 하기 화학식(VIIb)의 화합물 또는 하기 화학식(VIIc)의 화합물을 디히드록시화하는, 하기 화학식(VIa), (VIb), (VIc), (Va), (Vb) 또는 (Vc)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 C1-C6 알킬| C7-C116 아랄킬(여기서, 아릴기는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환된다)| 및 (CH2)nOR``(여기서, n은 1 내지 3이고, R``는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환되는 C6-C10 아릴기를 나타낸다)로 구성된 군 중에서 선택되고| P는 히드록실 보호기이며, 은 이중 결합 또는 단일 결합이다.제22항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징으로 하는 방법.제22항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 은 이중 결합을 나타내고, 화학식(VIIa)는 반응하여 화학식(VIa)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.제22항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 은 이중 결합을 나타내고, 화합물(VIIb)은 반응하여 화합물(VIb)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.제22항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 은 이중 결합을 나타내며, 화합물(VIIc)은 반응하여 화합물(VIc)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIa), (VIb), (VIc), (Va), (Vb), 또는 (Vc)의 화합물:상기 식에서, A 및 P는 제22항에서 정의한 바와 같다.제27항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP인 것을 특징으로 하는 화합물.하기 화학식(VIa)의 화합물, 화학식(VIb)의 화합물 또는 화학식(VIc)의 화합물의 이중 결합을 환원시키는, 하기 화학식(Va), (Vb) 또는 (Vc)의 화합물의 제조 방법:상기 식들에서, A는 C1-C6 알킬| C7-C16 아랄킬(여기서, 아릴기는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환된다)| 및 (CH2)nOR``(여기서, n은 1 내지 3이고, R``는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환되는 C6-C10 아릴기를 나타낸다)로 구성된 군 중에서 선택되고| P는 히드록실 보호기이다.제29항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징으로 하는 방법.제29항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 화합물(VIa)은 반응하여 화합물(Va)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.제29항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 화합물(VIb)은 반응하여 화합물(Vb)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.제29항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 화합물(VIc)은 반응하여 화합물(Vc)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(VIa), (Va), (VIb), (Vb), (VIc) 또는 (Vc)의 화합물을 디올 개열하는, 하기 화학식(IVa), (IVb), 또는 (IVc)의 화합물의 제조방법:상기 식들에서, A는 C1-C6 알킬| C7-C116 아랄킬(여기서, 아릴기는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환된다)| 및 (CH2)nOR``(여기서, n은 1 내지 3이고, R``는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환되는 C6-C10 아릴기를 나타낸다)로 구성된 군 중에서 선택되고| P는 히드록실 보호기이며, 은 이중 결합 또는 단일 결합이다.제24항에 있어서, P는 테트라히드로피라닐(THP) 보호기인 것을 특징으로 하는 방법.제34항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 은 단일 결합을 나타내고, 화합물(Va)은 반응하여 화합물(IVa)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.제34항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 은 단일 결합을 나타내고, 화합물(Vb)은 반응하여 화합물(IVc)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.제34항에 있어서, A는 (CH2)2Ph이고, 은 단일 결합이며, 화합물(Vc)은 반응하여 화합물(IVc)을 수득하는 것을 특징으로 하는 방법.하기 화학식(IVb)의 화합물:상기 식에서 A는 (CH2)2Ph이고, P는 THP이며, 은 단일 결합이다제1항 내지 제4항, 제7항 내지 제9항, 제12항 내지 제14항, 제17항 내지 19항, 제22항 내지 제26항 및 제29항 내지 제38항 중 어느 한 항에 따르는 방법을 포함하는 하기 화학식(I)을 가지는 프로스타글란딘 화합물의 제조방법:상기 식에서, A는 C1-C6 알킬| C7-C116 아랄킬(여기서, 아릴기는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환된다)| 및 (CH2)nOR``(여기서, n은 1 내지 3이고, R``는 C1-C6 알킬, 할로 및 CF3로 구성되는 군 중에서 선택되는 1 내지 3개의 치환기로 임의 치환되는 C6-C10 아릴기를 나타낸다)로 구성된 군 중에서 선택되고| B는 OR" 및 NHR"(여기서, R"은 C1-C6 알킬이다)로부터 선택되며| 은 이중 결합 또는 단일 결합이다.하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 라타노프로스트 합성방법: a) 제4항에 따른 1,4 첨가 반응,b) 제9항에 따른 선택적 환원,c) 제24항에 따른 디히드록시화,d) 제31항에 따른 환원,e) 제36항에 따른 디올 개열,f) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합인 화학식(IVa)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합인 화학식(IIIa)의 화합물을 수득하는 비티히 반응:g) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합인 화학식(IIIa)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합이고, B가 OiPr인 화학식(IIa)의 화합물을 수득하는 에스테르화: 및h) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합이고, B가 OiPr인 화학식(IIa)의 화합물을 반응시켜서 라타노프로스트를 수득하는 탈보호:하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 라타노프로스트의 합성방법: a) 제4항에 따른 1,4 첨가 반응,b) 제9항에 따른 선택적 환원,c) 제14항에 따른 보호 단계,d) 제25항에 따른 디히드록시화,e) 제32항에 따른 환원,f) 제37항에 따른 디올 개열,g) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합인 화학식(IVb)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합인 화학식(IIIb)의 화합물을 수득하는 비티히 반응: h) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합인 화학식(IIIb)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합이고, B가 OiPr인 화학식(IIb)의 화합물을 수득하는 에스테르화: 및i) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합이고, B가 OiPr인 화학식(IIb)의 화합물을 반응시켜서 라타노프로스트를 수득하는 탈보호:하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 라타노프로스트의 합성방법: a) 제4항에 따른 1,4 첨가 반응,b) 제9항에 따른 선택적 환원,c) 제19항에 따른 보호 단계,d) 제26항에 따른 디히드록시화,e) 제33항에 따른 환원,f) 제38항에 따른 디올 개열,g) A가 (CH2)2Ph이고, 가 단일 결합인 화학식(IVc)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, 가 단일 결합인 화학식(IIIc)의 화합물을 수득하는 비티히 반응: h) A가 (CH2)2Ph이고, 가 단일 결합인 화학식(IIIc)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합이고, B가 OiPr인 화학식(I)의 화합물을 수득하는 에스테르화:하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비마토프로스트의 합성방법: a) 제4항에 따른 1,4 첨가 반응,b) 제9항에 따른 선택적 환원,c) 제24항에 따른 디히드록시화,d) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP인 화합물(VIa)을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화합물(IVa)을 수득하는, 제34항에 따른 디올 개열,f) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화학식(IVa)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화학식(IIIa)의 화합물을 수득하는 비티히 반응: g) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화학식(IIIa)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합이고, B가 NHEt인 화학식(IIa)의 화합물을 수득하는 아미드화: e) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합이고, B가 NHEt인 화학식(IIa)의 화합물을 반응시켜서 비마토프로스트를 수득하는 탈보호:하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비마토프로스트의 합성방법: a) 제4항에 따른 1,4 첨가 반응,b) 제9항에 따른 선택적 환원,c) 제14항에 따른 보호 단계,d) 제25항에 따른 디히드록시화,f) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP인 화합물(VIb)을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화합물(IVb)을 수득하는, 제34항에 따른 디올 개열, g) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화학식(IVb)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화학식(IIIb)의 화합물을 수득하는 비티히 반응: h) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합인 화학식(IIIb)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 단일 결합이고, B가 NHEt인 화학식(IIb)의 화합물을 수득하는 아미드화: 및i) A가 (CH2)2Ph이고, P가 THP이며, 가 이중 결합이고, B가 NHEt인 화학식(IIb)의 화합물을 반응시켜서 비마토프로스트를 수득하는 탈보호:하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비마토프로스트의 합성방법: a) 제4항에 따른 1,4 첨가 반응,b) 제9항에 따른 선택적 환원,c) 제19항에 따른 탈보호 단계,d) 제26항에 따른 디히드록시화,e) A가 (CH2)2Ph인 화합물(VIc)을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, 가 이중 결합인 화합물(IVc)을 수득하는, 제34항에 따른 디올 개열,f) A가 (CH2)2Ph이고, 가 이중 결합인 화학식(IVc)의 화합물을 반응시켜서 A가 (CH2)2Ph이고, 가 이중 결합인 화학식(IIIc)의 화합물을 수득하는 비티히 반응: g) A가 (CH2)2Ph이고, 가 이중 결합인 화학식(IIIc)의 화합물을 반응시켜서 비마토프로스트를 수득하는 아미드화:제1항 내지 제3항, 제7항, 제8항, 제17항, 제18항, 제22항, 제23항 및 제34항, 제35항 중 어느 한 항에 따른 방법을 특징으로 하는 트라보프로스트의 합성방법.하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 가 이중 결합이고, X가 할로겐인 화학식(IX)의 화합물의 합성방법:a) A가 제1항에서 정의한 바와 같은 화학식(XV)의 산염화물을 비스(트리알킬실릴아세틸렌)과 반응하여 화학식(XIV)의 아세틸렌을 형성하는 단계|b) 화학식(XIV)의 아세틸렌을 순한 염기와 반응하여 화학식(XIII)의 아세틸렌을 형성하는 단계|c) 화학식(XIII)의 아세틸렌을 히드로할로겐화하여 화학식(XII)의 비닐 할로겐화물을 형성하는 단계|d) 화학식(XII)의 비닐 할로겐화물 중의 전구키랄 케톤을 입체선택적 환원하여 화학식(XI)의 비닐 할로겐화물을 형성하는 단계| 및e) 화학식(XI)의 비닐 할로겐화물 중의 히드록시기의 보호 단계.