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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2006-7019299 (2006-09-19) |
공개번호 | 10-2007-0002019 (2007-01-04) |
등록번호 | 10-1163113-0000 (2012-06-29) |
국제출원번호 | PCT/JP2005/004554 (2005-03-15) |
국제공개번호 | WO2005088398 (2005-09-22) |
번역문제출일자 | 2006-09-19 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020067019299 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-10-28) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
반사광 방지 효과가 높고, 포토레지스트와의 인터믹싱을 일으키지 않으며, F2엑시머레이저(파장 157nm) 또는 ArF엑시머레이저(파장 193nm) 등의 단파장광을 이용한 리소그라피 프로세스에서 사용 가능한 반사 방지막, 및 반사 방지막을 형성하기 위한 조성물을 제공하는 것.고형분 및 용제로 이루어지고, 이 고형분에서 차지하는 유황 원자의 비율이 5~40질량%인 것을 특징으로 하는 반사 방지막 형성 조성물. 상기 고형분은 유황 원자를 적어도 5질량% 갖는 폴리머 등을 포함한다.
고형분 및 용제로 이루어지고, 상기 고형분에서 차지하는 유황 원자의 비율이 5~25질량%인 반사 방지막 형성 조성물로서,상기 고형분이, 8~30질량%의 유황 원자를 함유하는 폴리머, 가교성 화합물 및 산화합물을 포함하고,상기 폴리머가, 각각 유황 원자를 갖는 아크릴산 에스테르화합물, 메타크릴산 에스테르화합물, 및 스티렌화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물에 의해 제조되는 폴리머, 적어도 2개의 티올기를 갖는 화합물에 의해 제조되는 폴리머, 2개의 티올기를 갖는 화합물과 2개의 에폭시기를 갖는 화합물로부터 제조되는
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