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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2007-0038381 (2007-04-19) |
등록번호 | 10-0829826-0000 (2008-05-08) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070038381 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-04-19) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 PMMA 패널 등의 기판층에 영향을 주지 않고, 금/티타늄 박막을 동시에 에칭할 수 있는 에칭 조성물 및 이를 이용한 에칭 방법에 관한 것으로서, a) 염산 20 내지 55 중량%, b) 질산 5 내지 25 중량%, c) 불화물 0.1 내지 15 중량%, d) 염소산 1 내지 20 중량%, 및 e) 잔량의 물을 포함하는 금/티타늄 박막 에칭용 조성물 및 이를 이용한 에칭 방법을 제공한다.
A) 염산 20 내지 55 중량%B) 질산 5 내지 25 중량%C) 불화물 0.1 내지 15 중량%,D) 하기 화학식 1을 갖는 염소산 1 내지 20 중량%, E) 잔량의 물을 포함하는 금/티타늄 박막 에칭용 조성물:[화학식 1]HCLOX식 중, X는 1 내지 4의 정수임.
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