서울 송파구 잠실동 ***-* 현대빌딩 *층(***특허법률사무소);
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심사청구여부
있음 (2007-06-08)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
소멸
초록▼
본 발명은 유도결합 플라즈마 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유도결합 플라즈마 처리장치의 안테나에 관한 것이다.본 발명은 유도결합 플라즈마를 발생시키는 제 1 안테나; 및 페라이트와 상기 페라이트의 둘레에 형성된 도선을 포함하여 이루어지는 제 2 안테나를 구비하는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치를 제공한다.따라서, 본 발명에 의하면 페라이트를 사용하여 유도 결합 플라즈마를 안정적으로 발생 및 유지시킬 수 있고, 안테나로써 플라즈마의 발생을 개시하고 페라이트 안테나로써 내부 전기장의 크기를 최대화하여 대면적의
본 발명은 유도결합 플라즈마 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유도결합 플라즈마 처리장치의 안테나에 관한 것이다.본 발명은 유도결합 플라즈마를 발생시키는 제 1 안테나; 및 페라이트와 상기 페라이트의 둘레에 형성된 도선을 포함하여 이루어지는 제 2 안테나를 구비하는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치를 제공한다.따라서, 본 발명에 의하면 페라이트를 사용하여 유도 결합 플라즈마를 안정적으로 발생 및 유지시킬 수 있고, 안테나로써 플라즈마의 발생을 개시하고 페라이트 안테나로써 내부 전기장의 크기를 최대화하여 대면적의 균일한 플라즈마를 발생시킬 수 있으며, 페라이트 안테나에 의하여 형성되는 내부 전기장의 크기를 극대화하여 원형 대칭성을 개선할 수 있다.
대표청구항▼
유도결합 플라즈마를 발생시키는 제 1 안테나; 및페라이트와 상기 페라이트의 둘레에 형성된 도선을 포함하여 이루어지는 제 2 안테나를 구비하는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,상기 제 1 안테나는 중심에 구비되고, 상기 제 2 안테나는 상기 제 1 안테나의 둘레에 구비된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 2 항에 있어서,상기 제 1 안테나의 주변에 적어도 2개의 튜브가 구비되고,상기 제 2 안테나는, 상기 튜브 표면에 페라이트가 형성되고 상기 페라이트 표면에 도선이 감겨서 형성된 것을
유도결합 플라즈마를 발생시키는 제 1 안테나; 및페라이트와 상기 페라이트의 둘레에 형성된 도선을 포함하여 이루어지는 제 2 안테나를 구비하는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,상기 제 1 안테나는 중심에 구비되고, 상기 제 2 안테나는 상기 제 1 안테나의 둘레에 구비된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 2 항에 있어서,상기 제 1 안테나의 주변에 적어도 2개의 튜브가 구비되고,상기 제 2 안테나는, 상기 튜브 표면에 페라이트가 형성되고 상기 페라이트 표면에 도선이 감겨서 형성된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 3 항에 있어서,상기 하나의 페라이트에는 상기 도선이 2회 이상 동일 방향으로 감긴 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 3 항에 있어서,상기 튜브내에 구비된 플라즈마를 더 포함하고,상기 제 1 안테나에 전원이 인가되면 ICP (Inductively coupled plasma)가 발생되는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 3 항에 있어서, 상기 각각의 튜브는,서로 동일한 크기 및/또는 모양인 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 3 항에 있어서, 상기 각각의 페라이트는,서로 동일한 크기 및/또는 모양인 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 3 항에 있어서, 상기 튜브는,상기 제 1 안테나를 중심으로 하여 원형으로 구비된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 8 항에 있어서,상기 튜브는 상기 제 1 안테나를 중심으로 하여 정다각형으로 구비되고,상기 페라이트는 상기 정다각형의 꼭지점에 구비되어 대칭 구조를 이루는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,유도결합 플라즈마를 발생시키는 반응 챔버(chamber); 및상기 반응 챔버의 하부에 구비되어, 플라즈마 처리공정을 수행하는 스테이지를 더 포함하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,상기 제 1 안테나와 제 2 안테나에는 각각 독립적으로 전원이 인가되는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,상기 제 1 안테나와 제 2 안테나에는 직렬로 전원이 인가되는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,상기 제 1 안테나와 제 2 안테나에는 병렬로 전원이 인가되는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 1 항에 있어서,상기 제 1 안테나는 적어도 두 부분으로 나뉘어지고, 상기 각각의 부분의 연결부는 선형 도선 및 상기 선형 도선을 감싸며 상기 선형 도선과 단락되지 않은 도선을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리 장치.제 14 항에 있어서,상기 선형 도선과 상기 선형 도선을 감싸는 도선은, 5 밀리미터 이상 이격되어 서로 단락되지 않는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.제 14 항에 있어서,상기 선형 도선을 감싸는 도선의 끝단은, <형 또는 ㄷ형 또는 ⊂형의 형상인 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
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