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단결정 실리콘 잉곳 성장장치 및 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C30B-015/00
출원번호 10-2007-0086232 (2007-08-27)
공개번호 10-2009-0021599 (2009-03-04)
DOI http://doi.org/10.8080/1020070086232
발명자 / 주소
  • 정승 / 서울시 양천구 신정*동 신시가지아파트 ****동 ****호
  • 최일수 / 경북 구미시 봉곡동 현대아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 실트론 / 경북 구미시 임수동 ***번지
대리인 / 주소
  • 특허법인무한 (MUHANN PATENT & LAW FIRM)
  • 서울 강남구 논현동 **-* 명림빌딩 *,*,*층(특허법인무한)
심사청구여부 있음 (2007-08-27)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

다결정 실리콘의 멜팅 시간을 단축하여 생산성을 향상시키는 실리콘 단결정 잉곳 성장 장치 및 방법이 개시된다. 상기 단결정 잉곳 성장장치는 다결정 실리콘 또는 실리콘 용융액 중 적어도 하나를 수용하는 석영도가니, 상기 석영도가니에 열을 가하는 히터, 상기 석영도가니와 연결되어 상기 석영도가니를 회전시키는 회전유닛 및 상기 회전유닛의 회전속도를 제어하는 제어유닛을 포함하고, 상기 단결정 잉곳 성장 방법은 실리콘 단결정 잉곳 성장 장치를 제공하는 단계, 다결정 실리콘을 제공하는 단계, 상기 다결정 실리콘을 석영도가니에 수용하는 단계,

대표청구항

다결정 실리콘 또는 실리콘 용융액 중 적어도 하나를 수용하는 석영도가니;상기 석영도가니에 열을 가하는 히터;상기 석영도가니와 연결되어 상기 석영도가니를 회전시키는 회전유닛; 및상기 회전유닛의 회전속도를 제어하는 제어유닛;을 포함하며, 상기 제어유닛은 상기 회전유닛의 회전속도를 1rpm이하로 제어하여 상기 다결정 실리콘의 용융속도를 향상시키는 것을 특징으로 하는 실리콘 단결정 잉곳 성장 장치.제 1항에 있어서,상기 히터는 상기 석영도가니 높이의 80~120%에 대응되는 부위에 상기 열을 가하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘 단

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 다결정 실리콘의 용융 속도를 증가시키기 위한 단속식 투입기술 | 홀더, 존, 디.
  2. [한국] 실리콘 단결정 잉곳의 산소농도 조절방법을 사용하여 제조된 웨이퍼 | 최일수, 한기정
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