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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2008-0057680 (2008-06-19) |
| 공개번호 | 10-2009-0131768 (2009-12-30) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020080057680 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2008-06-19) |
| 심사진행상태 | 거절결정(일반) |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 제조공정에 사용된 후 배출되는 염소화합물 유해가스 중 특히 부식성이 강한 염산가스 및 수분을 원활하게 제거하여 배기관 및 메인덕트의 부식을 방지해줌으로써 생산장비의 가동률을 향상시킴과 동시에 대기환경오염을 줄일 수 있는 반도체 제조공정의 폐가스 처리장치에 관한 것이다.이를 실현하기 위한 본 발명은 폐가스를 가열하는 건식처리부와, 상기 건식처리부의 일측에 설치되어 고온의 폐가스를 물과 반응시키는 습식처리부와, 상기 습식처리부의 일측에 연결되어 물과 반응 후의 폐가스가 배출되는 배기관 및 메인덕트로 이루어진 스크러버를
폐가스를 가열하는 건식처리부와, 상기 건식처리부의 일측에 설치되어 고온의 폐가스를 물과 반응시키는 습식처리부와, 상기 습식처리부의 일측에 연결되어 물과 반응 후의 폐가스가 배출되는 배기관 및 메인덕트로 이루어진 스크러버를 포함하는 반도체 제조공정의 폐가스 처리장치에 있어서,상기 배기관에 연결 설치될 수 있도록 유입구 및 배출구가 형성되는 본체프레임;상기 유입구를 통해 유입되는 폐가스 내에 포함된 부식성 수분을 제거하는 수분제거부;상기 수분제거부를 통과한 폐가스의 원활한 흐름과 수분의 유입을 방지하는 데미스터;상기 데미스터를 통과한
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