초록 ▼

본 발명은 반도체장비의 배기라인 내벽에 복수개의 분사노즐을 설치하여 세정액을 일정시간 동안 순차적으로 분사시켜줌으로써 파우더가 고착되는 것을 방지할 수 있도록 한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 관한 것이다.이를 실현하기 위한 본 발명은 반도체장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서, 상기 배기라인 내부의 상측에 설치되어 하부 내벽을 향해 질소(N2)를 분사시키는 질소분사노즐; 상기 질소분사노즐에서 하측으로 소정 간격 이격되게 설치되어 각각 하측 방향으로 세정액을

본 발명은 반도체장비의 배기라인 내벽에 복수개의 분사노즐을 설치하여 세정액을 일정시간 동안 순차적으로 분사시켜줌으로써 파우더가 고착되는 것을 방지할 수 있도록 한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 관한 것이다.이를 실현하기 위한 본 발명은 반도체장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서, 상기 배기라인 내부의 상측에 설치되어 하부 내벽을 향해 질소(N2)를 분사시키는 질소분사노즐; 상기 질소분사노즐에서 하측으로 소정 간격 이격되게 설치되어 각각 하측 방향으로 세정액을 분사시키는 복수개의 분사노즐; 상기 복수개의 분사노즐에 세정액을 공급시키는 세정액공급관; 및 상기 세정액공급관과 복수개의 각 분사노즐 사이에 각각 설치되어 세정액의 공급 또는 차단하는 역할을 하는 복수개의 밸브; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

반도체장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서,상기 배기라인 내부의 상측에 설치되어 하부 내벽을 향해 질소(N2)를 분사시키는 질소분사노즐;상기 질소분사노즐에서 하측으로 소정 간격 이격되게 설치되어 각각 하측방향으로 세정액을 분사시키는 복수개의 분사노즐;상기 복수개의 분사노즐에 세정액을 공급시키는 세정액공급관; 및상기 세정액공급관과 복수개의 각 분사노즐 사이에 각각 설치되어 세정액의 공급 또는 차단하는 역할을 하는 복수개의 밸브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체장비

반도체장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서,상기 배기라인 내부의 상측에 설치되어 하부 내벽을 향해 질소(N2)를 분사시키는 질소분사노즐;상기 질소분사노즐에서 하측으로 소정 간격 이격되게 설치되어 각각 하측방향으로 세정액을 분사시키는 복수개의 분사노즐;상기 복수개의 분사노즐에 세정액을 공급시키는 세정액공급관; 및상기 세정액공급관과 복수개의 각 분사노즐 사이에 각각 설치되어 세정액의 공급 또는 차단하는 역할을 하는 복수개의 밸브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치.