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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0025341 (2020-02-28) | |
등록번호 | 10-2279724-0000 (2021-07-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200025341 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-02-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 플라즈마를 이용한 배관 막힘 감소장치에 관한 것으로, 본 발명은 제1배관, 제2배관, 히팅유닛 및 플라즈마발생유닛을 포함함으로써 히팅유닛을 통해 가열된 핫 질소가 플라즈마발생유닛을 거치면서 이온화되어 이온화된 핫 질소를 진공배관라인 내부로 공급하면서 진공펌프와 스크러버 사이를 연결하는 진공배관라인 내부로 이동하는 폐가스에 대하여 농도를 희석시켜 진공배관라인 내부에 파우더가 고착되는 현상을 줄일 수 있으며, 이를 통하여 진공배관라인의 막힘 현상을 극소화할 수 있도록 하는 한편, 진공배관라인의 막힘 현상을 극소화함으로써 진공
프로세스 챔버(10), 진공펌프(20), 스크러버(30)를 포함하는 반도체 제조설비에서의 프로세스 챔버(10)에서 발생한 폐가스를 정화시키기 위해, 진공펌프(20)의 진공펌프배출안내관(20a)과 연결되어 폐가스로 인한 스크러버(30) 측으로 유입되는 배관 내부의 파우더 고착을 방지하면서 배관에 대한 막힘 현상을 감소시키는 플라즈마를 이용한 배관 막힘 감소장치(100)에 있어서, 진공펌프(20)의 폐가스 배출라인인 진공펌프배출안내관(20a) 단부와 일단이 연통 연결되는 제1배관(110); 일단이 상기 제1배관(110)과 타단과 연통
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