초록 ▼

약액의 처리 공정에서 약액에 의해 기판이 역오염되는 것을 방지할 수 있는 습식 기판 세정 장치가 제공된다. 그 습식 기판 세정 장치는, 상기 제3보울(61)의 상단에 형성되어 있을 뿐만 아니라 초순수가 충진되고 제3보울(61)을 타고 흘러내리도록 저면에 배출공(1)이 다수 형성되어 있는 세정챔버(2)와, 상기 세정챔버(2)에 초순수를 공급하도록 설치되어 있는 공급배관(3)을 포함한다. 그 세정 방법은, 회전 및 승강하는 스핀헤드(51)에 기판(W)을 안착시키고 제1, 2 약액을 노즐부(53)로 분사하여 세정하고 초순수를 분사하여 린

약액의 처리 공정에서 약액에 의해 기판이 역오염되는 것을 방지할 수 있는 습식 기판 세정 장치가 제공된다. 그 습식 기판 세정 장치는, 상기 제3보울(61)의 상단에 형성되어 있을 뿐만 아니라 초순수가 충진되고 제3보울(61)을 타고 흘러내리도록 저면에 배출공(1)이 다수 형성되어 있는 세정챔버(2)와, 상기 세정챔버(2)에 초순수를 공급하도록 설치되어 있는 공급배관(3)을 포함한다. 그 세정 방법은, 회전 및 승강하는 스핀헤드(51)에 기판(W)을 안착시키고 제1, 2 약액을 노즐부(53)로 분사하여 세정하고 초순수를 분사하여 린스를 하며 각각의 약액들을 제1, 2, 3보울(59, 60, 61)로 포집하여 배출하도록 하는 습식 기판 세정 방법에 있어서, 상기 초순수를 분사하여 린스를 하기 전에 제3보울(61)에 형성된 세정챔버(2)에 초순수를 공급하고 제3보울(61)의 벽면을 타고 흘러내리면서 제1, 2약액을 세척하도록 하는 것을 포함한다.

대표청구항 ▼

기판이 안착되고 세정공정을 위해 공급되는 다수의 약액들에 대응하여 상하이동 및 회전하는 스핀헤드와, 상기 다수의 약액들을 공급하는 약액공급부와 연결되어 기판 표면으로 약액을 분사하는 노즐부와, 상기 다수의 약액들을 각각 회수하기 위해 설치된 제1, 2, 3보울을 포함하는 습식 기판 세정 장치에 있어서,상기 제3보울의 상단에 형성되어 있을 뿐만 아니라 초순수가 충진되고 상기 제3보울을 타고 흘러내리도록 저면에 배출공이 다수 형성되어 있는 세정챔버와, 상기 세정챔버에 초순수를 공급하도록 설치되어 있는 공급배관을 포함하되,상기 배출공은

기판이 안착되고 세정공정을 위해 공급되는 다수의 약액들에 대응하여 상하이동 및 회전하는 스핀헤드와, 상기 다수의 약액들을 공급하는 약액공급부와 연결되어 기판 표면으로 약액을 분사하는 노즐부와, 상기 다수의 약액들을 각각 회수하기 위해 설치된 제1, 2, 3보울을 포함하는 습식 기판 세정 장치에 있어서,상기 제3보울의 상단에 형성되어 있을 뿐만 아니라 초순수가 충진되고 상기 제3보울을 타고 흘러내리도록 저면에 배출공이 다수 형성되어 있는 세정챔버와, 상기 세정챔버에 초순수를 공급하도록 설치되어 있는 공급배관을 포함하되,상기 배출공은 상기 제3보울의 벽면측으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 습식 기판 세정 장치.