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[한국특허] 마스크 블랭크용 글라스 기판 및 이것을 제조하기 위한 연마 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • G03F-001/60
  • B24B-037/04
  • C03C-019/00
  • G03F-001/00
출원번호 10-2008-7015020 (2008-06-20)
공개번호 10-2008-0077379 (2008-08-22)
등록번호 10-1257133-0000 (2013-04-16)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2005-00370659 (2005-12-22)
국제출원번호 PCT/JP2006/325453 (2006-12-14)
국제공개번호 WO 2007/072890 (2007-06-28)
번역문제출일자 2008-06-20
DOI http://doi.org/10.8080/1020087015020
발명자 / 주소
  • 이또 마사부미 / 일본 ******* 도쿄도 치요다쿠 유라쿠쵸 *-**-* 아사히 가라스가부시키가이샤 내
  • 고지마 히로시 / 일본 ******* 후꾸시마껭 고리야마시 마찌이께다이 *-* 고리야마세이부 다이-* 고오교오 단찌 에이지씨 엘렉트로닉스가부시키가이샤 내
출원인 / 주소
  • 아사히 가라스 가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 지요다쿠 마루노우치 *쵸메 *방 *고
대리인 / 주소
  • 성재동; 장수길
심사청구여부 있음 (2011-03-10)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록 ▼

본 발명의 목적은 EUVL에서 사용하는 반사형 마스크를 위한 글라스 기판에서와 같이 극히 높은 정확도로써 연마되는 표면을 가질 것이 요구되는 글라스 기판; 및 이 글라스 기판을 제조하는 연마 방법을 제공하는 것이다.본 발명은, SiO2를 주성분으로서 포함하고 연마된 주표면을 가지는 글라스 기판인 마스크 블랭크용 글라스 기판에 있어서, 주표면 상의 오목 형상 결점 및 볼록 형상 결점이 각각 2 ㎚ 이하의 깊이 그리고 2 ㎚ 이하의 높이를 갖고 60 ㎚ 이하의 반값 폭을 가지며, 그 결과 오목 형상 결점 및/또는 볼록 형상 결점은, 글

대표청구항

주표면이 연마되어 있는, SiO2를 포함하는 마스크 블랭크용 글라스 기판이며, 상기 주표면이 오목 형상 결점, 볼록 형상 결점 또는 이들 둘 다를 갖고, 상기 오목 형상 결점 및 볼록 형상 결점의 반값 폭이 60 ㎚ 이하이며, 2 nm를 초과하는 깊이를 갖는 오목 형상 결점 및 2 nm를 초과하는 높이를 갖는 볼록 형상 결점의 개수가 142 ㎜ × 142 ㎜ 범위당 3개 이하이고,상기 주표면을 원자간력 현미경으로 측정한 표면 조도 Rms가 0.10 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 글라스 기판.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] CERIUM OXIDE PARTICLE, AND PRODUCTION METHOD BY HUMIDIFYING FIRING | OTA ISAO, TANIMOTO KENJI, TAKAKUMA NORIYUKI
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  2. [일본] GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK | MIYAGAKI JUNJI, TANABE MASARU, KOIKE KESAHIRO
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이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. [한국] 블랭크 마스크용 기판, 이를 사용하여 제조된 블랭크 마스크 및 그 제조방법 | 남기수, 양신주, 양철규, 이재환
    상세보기
  2. [한국] 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 반사형 마스크 블랭크의 제조 방법, 반사형 마스크의 제조 방법 | 시오따 유끼
    상세보기
  3. [한국] 블랭크 마스크용 기판, 이를 사용하여 제조된 블랭크 마스크 및 그 제조방법 | 남기수, 양신주, 양철규, 이재환
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