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[한국특허] 표시 장치 제조용 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법 및 마스크의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-001/66
  • G03F-001/50
  • H01L-021/02
  • H10K-071/00
  • H10K-099/00
출원번호 10-2017-0169612 (2017-12-11)
공개번호 10-2018-0073451 (2018-07-02)
등록번호 10-2533073-0000 (2023-05-11)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2016-249328 (2016-12-22);일본(JP) JP-P-2017-220801 (2017-11-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170169612
발명자 / 주소
  • 야스모리, 준이찌 / 일본 ******* 도꾜도 신주꾸꾸 니시신주꾸 *-**-* 호야 가부시키가이샤 내
  • 즈보이, 세이지 / 일본 ******* 도꾜도 신주꾸꾸 니시신주꾸 *-**-* 호야 가부시키가이샤 내
  • 가와하라, 아끼히로 / 일본 ******* 도꾜도 신주꾸꾸 니시신주꾸 *-**-* 호야 가부시키가이샤 내
출원인 / 주소
  • 호야 가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 신쥬꾸구 니시신쥬꾸 *쵸메 **-*
대리인 / 주소
  • 양영준; 이중희
심사청구여부 있음 (2020-09-03)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은, 마스크 블랭크용 기판이나 마스크 블랭크를 제조할 때의 제조 수율이 높은 표시 장치 제조용 마스크 블랭크용 기판을 제공한다.전사 패턴이 되는 박막이 형성되는 제1 주표면과, 해당 제1 주표면에 대향해서 설치된 제2 주표면과, 제1 주표면 및 제2 주표면에 대하여 수직인 단부면을 갖는 투광성 기판을 구비한다.투광성 기판은, 제1 주표면을 특정하는 마크를 갖는다.마크는, 제1 주표면, 제2 주표면 및 단부면 중 적어도 하나에 설치되어 있다.마크는, 제1 주표면 및 제2 주표면의 경면 연마, 단부면의 조면화 처리 및 경면 연마

대표청구항

표시 장치 제조용 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법으로서,상기 마스크 블랭크용 기판은, 전사 패턴이 되는 박막이 형성되는 제1 주표면과, 해당 제1 주표면에 대향해서 설치된 제2 주표면과, 상기 제1 주표면 및 상기 제2 주표면에 대하여 수직인 단부면을 갖고,한쪽의 주표면과, 해당 한쪽의 주표면에 대향해서 설치된 다른 쪽의 주표면과, 상기 한쪽의 주표면 및 상기 다른 쪽의 주표면에 대하여 수직인 단부면을 갖는 투광성 기판을 준비하는 공정과,상기 투광성 기판의 상기 한쪽의 주표면 및 상기 다른 쪽의 주표면을 경면 연마하는 공정과,상기

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 마스크블랭크용 기판, 마스크블랭크 및 포토마스크 | 마루야마 오사무, 하라다 가즈아키, 아카가와 히로유키
  2. [한국] 포토마스크 블랭크용 투명 기판, 포토마스크 블랭크 및 그의 제조 방법 | 남기수, 안성용
  3. [일본] REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF REFLECTIVE MASK BLANK | ABE TSUKASA, TAKIGAWA TADAHIKO, ISHIKAWA MIKIO
  4. [일본] PRODUCTION OF PHOTOMASK | SHIGEMATSU KAZUMASA, YANAGIDA KIMIO, SHIDA TAKAO, SUZUKI EIJI
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