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연합인증

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펄스 스트레처를 가진 고출력 엑시머 레이저 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01S-003/223
출원번호 10-2008-7031844 (2008-12-29)
공개번호 10-2009-0020649 (2009-02-26)
등록번호 10-1385046-0000 (2014-04-08)
우선권정보 미국(US) 11/805,583 (2007-05-23);미국(US) 60/811,242 (2006-06-05)
국제출원번호 PCT/US2007/013032 (2007-05-31)
국제공개번호 WO 2007/143145 (2007-12-13)
번역문제출일자 2008-12-29
DOI http://doi.org/10.8080/1020087031844
발명자 / 주소
  • 어쇼프 알렉산더 아이. / 미국 캘리포니아주 ***** 샌디에고 매도우 플라워 플레이스 *****
  • 펠렐 제임스 제이. / 미국 캘리포니아주 ***** 테미큘라 오크 힐 드라이브 *****
  • 호프만 토마스 / 미국 캘리포니아주 ***** 샌디에고 아리조나 스트리트 ****, 샵***
  • 레일리 다니엘 제이. / 미국 캘리포니아주 ***** 샌디에고 아게이트 스트리트 ***
  • 레멘 크리스 알. / 미국 캘리포니아주 ***** 샌디에고 란초 페나스퀴토스 불바드 ***** 샵에이***
출원인 / 주소
  • 사이머 엘엘씨 / 미국 캘리포니아 *****-**** 샌디에고 쏜민트 코트 *****
대리인 / 주소
  • 송봉식; 정삼영
심사청구여부 있음 (2012-04-04)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록 ▼

고출력 엑시머 또는 분자 플루오르 가스 방전 레이저 DUV 광원 시스템으로서, 광 지연 라인 미러의 면을 가로질러 퍼징가스를 지향시키는 퍼징 가스 공급 시스템을 구비하는 광 지연 경로 미러 가스 퍼징 어셈블리, 및 광 지연 경로 미러를 구비하는 펄스 스트레처를 포함하는 고출력 엑시머 또는 분자 플루오르 가스 방전 레이저 DUV 광원 시스템을 포함하는 장치 및 방법이 개시된다.상기 광 지연 경로 미러는 복수의 광 지연 경로 미러를 포함하고; 상기 퍼징 가스 공급 시스템은 퍼징 가스를 복수의 광 지연 라인 미러 각각의 면을 지나도록 지

대표청구항

펄스 스트레처를 구비하는 고 출력 엑시머 또는 분자 플루오르 가스 방전 레이저 DUV 광원 시스템을 포함하고,상기 펄스 스트레처는,광 지연 라인 미러; 및광 지연 라인 미러 가스 퍼징 어셈블리;를 구비하고,상기 광 지연 라인 미러 가스 퍼징 어셈블리는 퍼징 가스를 상기 광 지연 라인 미러의 면 전체에 지향시키는 퍼징 가스 분배 매니폴드 및 배플 장치를 포함하는 퍼징 가스 공급 시스템을 구비하고, 상기 배플 장치는 광 지연 경로 미러를 지연 경로에서의 광선에 노출시키는 광 전송 개구를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [미국] Line selected F2 two chamber laser system | Knowles, David S., Brown, Daniel J.W., Sandstrom, Richard L., Rylov, German E., Onkels, Eckehard D., Besaucele, Herve A., Myers, David W., Ershov, Alexander I., Partlo, William N., Fomenkov, Igor V.
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  2. [미국] Exposure apparatus and exposure method | Owa, Soichi, Shiraishi, Naomasa, Aoki, Takashi
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