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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2009-0015412 (2009-02-24) | |
공개번호 | 10-2010-0096507 (2010-09-02) | |
등록번호 | 10-1540609-0000 (2015-07-24) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090015412 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-02-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(심사전치후) | |
법적상태 | 등록 |
웨이퍼가 과식각되는 것을 방지하기 위한 구조를 갖는 웨이퍼 에지 식각 장치가 제공된다. 웨이퍼 에지 식각 장치는, 챔버와, 챔버 내부에 위치하고 웨이퍼가 안착되는 척과, 웨이퍼와 이격되어 웨이퍼 상부에 배치되는 플레이트와, 웨이퍼의 에지를 따라 형성되며 플레이트 외주부에 결합되는 에지링을 포함하되, 에지링은 웨이퍼와 이격되어 평행면을 형성하는 링 베이스와, 링 베이스로부터 돌출되어 웨이퍼의 에지를 웨이퍼의 중앙부와 격리하는 제1 링 돌기를 포함한다
챔버;상기 챔버 내부에 위치하고 웨이퍼가 안착되는 척;상기 웨이퍼와 이격되어 상기 웨이퍼 상부에 배치되는 플레이트; 및상기 웨이퍼의 에지를 따라 형성되며 상기 플레이트 외주부에 결합되는 에지링을 포함하되,상기 에지링은 상기 웨이퍼와 이격되어 평행면을 형성하고, 상기 플레이트에서 아래방향으로 연장되는 링 베이스, 및상기 링 베이스로부터 돌출되어 상기 웨이퍼의 에지를 상기 웨이퍼의 중앙부와 격리하고, 가늘어지는 끝을 포함하는 제1 링 돌기를 포함하되,상기 제1 링 돌기는 상기 링 베이스와 인접한 상기 에지링의 가장자리에 형성되고, 상기
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