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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | EP-0071490 (2011-12-01) |
공개번호 | WO-0095216 (2012-07-19) |
우선권정보 | US-201113004905 (2011-01-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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An apparatus and method for etching a portion of a wafer include a mount for holding a wafer having an edge, a front surface, a back surface and an axis perpendicular to the front and back surfaces. A frame is used to deliver an etchant to the wafer edge while the wafer is held with the wafer edge a
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