초록 ▼

본 발명은 웨이퍼 에지 식각장치에 관한 것으로, 그 주요구성은 외체를 이루는 챔버; 양단에 걸리는 전압차에 따라 상기 반응공간에 플라즈마가 발생될 수 있도록 하는 한 쌍의 전극; 상기 한 쌍의 전극 사이에 전압차를 발생시키는 전원 공급부; 상기 웨이퍼를 그 에지만이 상기 반응공간으로 노출되도록 구획하고 있는 한 쌍의 차폐링; 상기 한 쌍의 전극 사이에 형성되는 절연공간으로 절연가스를 공급하는 절연가스 공급부; 및 상기 한 쌍의 전극 사이에 걸리는 전압차에 의해 상기 한 쌍의 차폐링 외부로 상기 플라즈마가 발생할 수 있도록 상기 챔버

본 발명은 웨이퍼 에지 식각장치에 관한 것으로, 그 주요구성은 외체를 이루는 챔버; 양단에 걸리는 전압차에 따라 상기 반응공간에 플라즈마가 발생될 수 있도록 하는 한 쌍의 전극; 상기 한 쌍의 전극 사이에 전압차를 발생시키는 전원 공급부; 상기 웨이퍼를 그 에지만이 상기 반응공간으로 노출되도록 구획하고 있는 한 쌍의 차폐링; 상기 한 쌍의 전극 사이에 형성되는 절연공간으로 절연가스를 공급하는 절연가스 공급부; 및 상기 한 쌍의 전극 사이에 걸리는 전압차에 의해 상기 한 쌍의 차폐링 외부로 상기 플라즈마가 발생할 수 있도록 상기 챔버 내에 공정가스를 공급하는 공정가스 공급부;로 이루어지되, 상기 각각의 차폐링은 상기 웨이퍼와 접촉하는 말단면의 반경방향 외측 모서리가 모나게 형성되면서 상기 외측 모서리로부터 형성되는 반경방향 외측면이 상기 외측 모서리보다 바깥쪽으로 돌출되지 않도록 되어 있는 것을 특징으로 하며, 따라서, 직각면 또는 오목면으로 된 차폐링의 외측면이 차폐링과 인접한 지점에서의 플라즈마 발생을 방해하지 않으므로, 차폐링을 경계로 웨이퍼 에지부분에 식각 천이부가 발생되지 않도록 하여 식각 천이부에 잔류하는 불순물 등으로 인한 웨이퍼 수율저하를 막을 수 있게 된다.

대표청구항 ▼

외체를 이루는 챔버(3);상기 챔버(3) 내부에 상호 대향한 상태로 상대 이동 가능하게 설치되어 최근접한 반응위치에서 반응공간(15)을 확보하면서 양단에 걸리는 전압차에 따라 상기 반응공간(15)에 플라즈마(P)가 발생될 수 있도록 하는 한 쌍의 전극(4,5);상기 한 쌍의 전극(4,5) 중 어느 한 쪽에 연결되어 상기 전극(4,5) 사이에 전압차를 발생시키는 전원 공급부(6);상기 한 쌍의 전극(4,5)의 상호 대향면(21,22) 상에 각각 돌출되어 상기 한 쌍의 전극(4,5)이 상기 반응위치에 있을 때 웨이퍼(10)와 접촉하되,

외체를 이루는 챔버(3);상기 챔버(3) 내부에 상호 대향한 상태로 상대 이동 가능하게 설치되어 최근접한 반응위치에서 반응공간(15)을 확보하면서 양단에 걸리는 전압차에 따라 상기 반응공간(15)에 플라즈마(P)가 발생될 수 있도록 하는 한 쌍의 전극(4,5);상기 한 쌍의 전극(4,5) 중 어느 한 쪽에 연결되어 상기 전극(4,5) 사이에 전압차를 발생시키는 전원 공급부(6);상기 한 쌍의 전극(4,5)의 상호 대향면(21,22) 상에 각각 돌출되어 상기 한 쌍의 전극(4,5)이 상기 반응위치에 있을 때 웨이퍼(10)와 접촉하되, 상기 웨이퍼(10)를 그 에지(12)만이 상기 반응공간(15)으로 노출되도록 구획하고 있는 한 쌍의 차폐링(7,8);상기 한 쌍의 차폐링(7,8) 내부에서 상기 한 쌍의 전극(4,5) 사이에 형성되는 절연공간(16)으로 절연가스(I)를 공급하는 절연가스 공급부(9); 및상기 절연공간(16)에 절연가스(I)가 주입된 상태에서 상기 한 쌍의 전극(4,5) 사이에 걸리는 전압차에 의해 상기 한 쌍의 차폐링(7,8) 외부로 상기 플라즈마(P)가 발생할 수 있도록 상기 챔버(3) 내에 공정가스(G)를 공급하는 공정가스 공급부(11);로 이루어지되,상기 각각의 차폐링(7,8)은 상기 반응공간(15)에 발생한 상기 플라즈마(P)에 의해 식각되는 상기 웨이퍼(10)의 상기 에지(12)와 식각되지 않는 상기 웨이퍼(10)의 패턴영역(14) 사이의 경계에 단이 지도록, 상기 웨이퍼(10)와 접촉하는 말단면(72,82)의 반경방향 외측 모서리(71,81)가 모나게 형성되면서 상기 외측 모서리(71,81)로부터 형성되는 반경방향 외측면(73,83)이 상기 외측 모서리(71,81)보다 바깥쪽으로 돌출되지 않도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 에지 식각장치.