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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0042085 (2011-03-07) |
등록번호 | US-8099817 (2012-01-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
In a first aspect, an apparatus for cleaning a thin disk is provided. The apparatus includes a support roller for supporting a rotating wafer within a wafer cleaner. The support roller comprises a guide portion, for receiving an edge of a wafer, having an inclined surface comprising a low-friction m
1. A side-contact roller for contacting one or more major surfaces of a wafer rotating within a wafer cleaner, comprising: a first and second guide surface, wherein each of the first and second surfaces is inclined and includes a low-friction material adapted to facilitate sliding a wafer edge betwe
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