[특허]웨이퍼 에지 식각 장치

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웨이퍼 에지 식각 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/3065 H01L-021/027
출원번호	10-2009-0015412 (2009-02-24)
공개번호	10-2010-0096507 (2010-09-02)
등록번호	10-1540609-0000 (2015-07-24)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020090015412
발명자 / 주소	장종광 / 경기도 부천시 원미구 상일로 , 동 호 (상동, 반달마을) 조오상 / 서울특별시 관악구 신림로길 *-, **호 (신림동) 이인근 / 경기 용인시 기흥구 삼성로 , 마로니에동 **호 (농서동, 삼성전자(주)기흥공장 남자기숙사) 김효정 / 경기도 안양시 동안구 학의로 , 푸른마을대우아파트 동 *호 (평촌동)
출원인 / 주소	삼성전자 주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
대리인 / 주소	특허법인가산
심사청구여부	있음 (2014-02-24)
심사진행상태	등록결정(심사전치후)
법적상태	등록

초록

웨이퍼가 과식각되는 것을 방지하기 위한 구조를 갖는 웨이퍼 에지 식각 장치가 제공된다. 웨이퍼 에지 식각 장치는, 챔버와, 챔버 내부에 위치하고 웨이퍼가 안착되는 척과, 웨이퍼와 이격되어 웨이퍼 상부에 배치되는 플레이트와, 웨이퍼의 에지를 따라 형성되며 플레이트 외주부에 결합되는 에지링을 포함하되, 에지링은 웨이퍼와 이격되어 평행면을 형성하는 링 베이스와, 링 베이스로부터 돌출되어 웨이퍼의 에지를 웨이퍼의 중앙부와 격리하는 제1 링 돌기를 포함한다

대표청구항 ▼

챔버;상기 챔버 내부에 위치하고 웨이퍼가 안착되는 척;상기 웨이퍼와 이격되어 상기 웨이퍼 상부에 배치되는 플레이트; 및상기 웨이퍼의 에지를 따라 형성되며 상기 플레이트 외주부에 결합되는 에지링을 포함하되,상기 에지링은 상기 웨이퍼와 이격되어 평행면을 형성하고, 상기 플레이트에서 아래방향으로 연장되는 링 베이스, 및상기 링 베이스로부터 돌출되어 상기 웨이퍼의 에지를 상기 웨이퍼의 중앙부와 격리하고, 가늘어지는 끝을 포함하는 제1 링 돌기를 포함하되,상기 제1 링 돌기는 상기 링 베이스와 인접한 상기 에지링의 가장자리에 형성되고, 상기 제1 링 돌기는 상기 웨이퍼의 표면과 접촉하고,상기 제1 링 돌기는 상기 웨이퍼의 직경보다 작은 직경을 갖는 링형태로 형성되어, 상기 웨이퍼의 에지보다 내측에 위치하고,상기 링 베이스로부터 돌출되고 상기 제1 링 돌기의 직경보다 작은 제2 링 돌기를 더 포함하는 웨이퍼 식각 장치.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

[한국] 식각 영역 조절 장치 및 웨이퍼 에지 식각 장치 그리고웨이퍼 에지 식각 방법 | 박종철, 정상섭
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[한국] 그라운드링을 구비한 베벨 식각 장치 | 김도형, 서대영, 홍기로
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[미국] Control of bevel etch film profile using plasma exclusion zone rings larger than the wafer diameter | Fang,Tong, Kim,Yunsang, Kim,Keechan, Stojakovic,George
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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