초록 ▼

본 발명은 가상의 마스크의 패턴을 기판에 형성시키는 마스크리스 노광 장치에 있어서, 기판이 장착되는 이동부; 광을 출력하는 광원부; 광원부의 광을 패턴을 형성하는 복수 스폿 빔으로 분할하여 이동부로 투영하는 투영부; 기판과 가상의 마스크의 정렬을 위한 정렬광을 출력하는 정렬부; 복수 스폿 빔과 정렬광을 촬상하는 빔 촬상부; 촬상된 정렬광과 적어도 두 개의 스폿 빔의 거리를 측정하고, 측정된 거리에 따라 가상의 마스크와 기판의 정렬 상태를 판단하여 이동부의 이동을 제어하는 제어부를 포함한다.본 발명은 오프 액시스 정렬을 이용하여 마스

본 발명은 가상의 마스크의 패턴을 기판에 형성시키는 마스크리스 노광 장치에 있어서, 기판이 장착되는 이동부; 광을 출력하는 광원부; 광원부의 광을 패턴을 형성하는 복수 스폿 빔으로 분할하여 이동부로 투영하는 투영부; 기판과 가상의 마스크의 정렬을 위한 정렬광을 출력하는 정렬부; 복수 스폿 빔과 정렬광을 촬상하는 빔 촬상부; 촬상된 정렬광과 적어도 두 개의 스폿 빔의 거리를 측정하고, 측정된 거리에 따라 가상의 마스크와 기판의 정렬 상태를 판단하여 이동부의 이동을 제어하는 제어부를 포함한다.본 발명은 오프 액시스 정렬을 이용하여 마스크리스 노광 공정을 수행할 때, 노광 전에 정렬광과 패턴형성광의 복수 스폿 빔과의 거리(즉 벡터량)인 베이스라인(baseline)을 정의함으로써 기판과 가상의 마스크 간의 정렬 상태를 판단할 수 있다. 또한 기준 베이스라인과 정의된 베이스라인을 비교하여 베이스라인의 변동량을 산출할 수 있고, 산출된 베이스라인의 변동량을 보정할 수 있어 가상의 마스크와 기판의 정렬을 정확하게 수행할 수 있으며 이로 인해 기판의 노광 성능을 향상시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

가상의 마스크의 패턴을 기판에 형성시키는 오프 액시스 정렬을 이용한 마스크리스 노광 장치에 있어서,상기 기판이 장착되는 이동부;광을 출력하는 광원부;상기 광원부의 광을 상기 패턴을 형성하는 복수 스폿 빔으로 분할하여 상기 이동부로 투영하는 투영부;상기 기판과 가상의 마스크의 정렬을 위한 정렬광을 출력하는 정렬부;상기 복수 스폿 빔과 상기 정렬광을 촬상하는 빔 촬상부;상기 촬상된 상기 정렬광과 적어도 두 개의 스폿 빔의 거리를 측정하고, 측정된 거리에 따라 상기 가상의 마스크와 기판의 정렬 상태를 판단하여 상기 이동부의 이동을 제어하

가상의 마스크의 패턴을 기판에 형성시키는 오프 액시스 정렬을 이용한 마스크리스 노광 장치에 있어서,상기 기판이 장착되는 이동부;광을 출력하는 광원부;상기 광원부의 광을 상기 패턴을 형성하는 복수 스폿 빔으로 분할하여 상기 이동부로 투영하는 투영부;상기 기판과 가상의 마스크의 정렬을 위한 정렬광을 출력하는 정렬부;상기 복수 스폿 빔과 상기 정렬광을 촬상하는 빔 촬상부;상기 촬상된 상기 정렬광과 적어도 두 개의 스폿 빔의 거리를 측정하고, 측정된 거리에 따라 상기 가상의 마스크와 기판의 정렬 상태를 판단하여 상기 이동부의 이동을 제어하는 제어부를 포함하되,상기 제어부는,상기 정렬광과 상기 적어도 두 개의 스폿 빔의 각 거리를 베이스라인으로 설정하고,(MN은 개수로 M x N개의 샘플링 스폿 빔의 개수이고, j는 스폿 빔의 위치임)상기 정렬광과 상기 적어도 두 개의 스폿 빔과의 각 거리의 벡터obij'를 생성하고, 생성된 벡터obij'를 이용하여 상기 베이스라인(oBi')을 설정하고,상기 빔 촬상부와 적어도 두 개의 기준 스폿 빔의 거리가 기준 베이스라인으로 미리 설정되어 있고, 상기 기준 베이스라인의 벡터(orij)가 미리 저장되어 있으며,상기 빔 촬상부에서 투영되는 적어도 두 개의 스폿 빔으로 임시 베이스라인을 설정하고 상기 임시 베이스라인의 벡터orij'를 생성하고, 상기 기준 베이스라인의 벡터orij와 임시 베이스라인의 벡터orij'를 비교하여 임시 베이스라인의 변동량을 산출하고, 산출된 임시 베이스라인의 변동량에 대응하는 상기 설정된 베이스라인의 변동량을 산출하는 오프 액시스 정렬을 이용한 마스크리스 노광 장치.