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연합인증

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[한국특허] 기판 건조 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/304
출원번호 10-2009-0123827 (2009-12-14)
공개번호 10-2011-0067293 (2011-06-22)
등록번호 10-1078536-0000 (2011-10-25)
DOI http://doi.org/10.8080/1020090123827
발명자 / 주소
  • 강신재 / 경기도 성남시 분당구 구미동 무지개마을제일아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 케이씨텍 / 경기 안성시 미양면 계륵리 ***-*
대리인 / 주소
  • 특허법인무한
심사청구여부 있음 (2009-12-14)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명의 기판 건조 장치는, 기체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-Propyl Alcohol)과 세정 물질을 이용하여 웨이퍼에 대한 건조 작업이 진행되는 웨이퍼 건조부; 웨이퍼 건조부와 연결되며, 웨이퍼에 대한 건조 작업 완료 시 웨이퍼 건조부에 수용된 세정 물질이 배출되는 세정 물질 배출부; 및 세정 물질 배출부와 연통되게 결합되며, 웨이퍼 건조부에서 웨이퍼에 대한 건조 작업 결과 발생될 수 있는 흄(fume)을 제거하기 위하여, 흡입력을 발생시키는 흄 흡입력 발생부;를 포함한다. 본 발명에 따르면, 웨이퍼에 대한 건조

대표청구항

기체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-Propyl Alcohol)과 세정 물질을 이용하여 웨이퍼에 대한 건조 작업이 진행되는 웨이퍼 건조부;상기 웨이퍼 건조부와 연결되며, 상기 웨이퍼에 대한 건조 작업 완료 시 상기 웨이퍼 건조부에 수용된 세정 물질이 배출되는 세정 물질 배출부; 및상기 세정 물질 배출부와 연통되게 결합되며, 상기 웨이퍼 건조부에서 상기 웨이퍼에 대한 건조 작업 결과 발생될 수 있는 흄(fume)을 제거하기 위하여, 흡입력을 발생시키는 흄 흡입력 발생부;를 포함하며,상기 흄 흡입력 발생부와 상기 세정 물질

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] SUBSTRATE TREATING APPARATUS | AIHARA TOMOAKI
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