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연합인증

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[한국특허] 기판 처리 방법 및 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/67
출원번호 10-2018-0051006 (2018-05-03)
공개번호 10-2019-0126996 (2019-11-13)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180051006
발명자 / 주소
  • 노상은 / 경북 포항시 북구 양덕동 **** 양덕삼구트리니엔 ***-***
출원인 / 주소
  • 세메스 주식회사 / 충청남도 천안시 서북구 직산읍 *산단*길 ** ( )
대리인 / 주소
  • 권혁수; 송윤호
심사청구여부 있음 (2018-05-03)
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 방법 및 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는 기판을 처리하는 공정을 수행하는 기판 처리 유닛, 상기 기판 처리 유닛에서 발생하는 흄(Fume)을 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은 상기 기판 처리 유닛에 연결되어 배기통로를 가지는 배기관, 상기 배기관에 설치되어 상기 기판 처리 유닛을 감압하는 감압 부재 및 상기 기판 처리 유닛과 상기 감압 부재 사이에 배치되며 상기 흄(Fume)을 수집하는 흄 수집부를 포함할 수 있다.이로 인해 배기관에 흄 수집부가 제공되므로 배기관의 내벽에

대표청구항

기판을 처리하는 장치에 있어서,기판을 처리하는 공정을 수행하는 기판 처리 유닛;상기 기판 처리 유닛에서 발생하는 흄(Fume)을 배기하는 배기 유닛을 포함하되;상기 배기 유닛은,상기 기판 처리 유닛에 연결되며 배기통로를 가지는 배기관;상기 배기관에 설치되어 상기 기판 처리 유닛을 감압하는 감압 부재 및;상기 기판 처리 유닛과 상기 감압 부재 사이에 배치되며 상기 흄(Fume)을 수집하는 흄 수집부를 포함하는 기판 처리 장치.

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 반도체웨이퍼 증착 장비의 반응부산물 제거 장치 | 류종암
  2. [한국] 트랩 장치 | 노무라노리히코
  3. [일본] PIPING CLEANING METHOD AND APPARATUS | FUKUNAGA AKIRA
  4. [한국] 기판 처리 장치 | 박민정, 조수현
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