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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0051006 (2018-05-03) | |
공개번호 | 10-2019-0126996 (2019-11-13) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180051006 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-05-03) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 방법 및 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는 기판을 처리하는 공정을 수행하는 기판 처리 유닛, 상기 기판 처리 유닛에서 발생하는 흄(Fume)을 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은 상기 기판 처리 유닛에 연결되어 배기통로를 가지는 배기관, 상기 배기관에 설치되어 상기 기판 처리 유닛을 감압하는 감압 부재 및 상기 기판 처리 유닛과 상기 감압 부재 사이에 배치되며 상기 흄(Fume)을 수집하는 흄 수집부를 포함할 수 있다.이로 인해 배기관에 흄 수집부가 제공되므로 배기관의 내벽에
기판을 처리하는 장치에 있어서,기판을 처리하는 공정을 수행하는 기판 처리 유닛;상기 기판 처리 유닛에서 발생하는 흄(Fume)을 배기하는 배기 유닛을 포함하되;상기 배기 유닛은,상기 기판 처리 유닛에 연결되며 배기통로를 가지는 배기관;상기 배기관에 설치되어 상기 기판 처리 유닛을 감압하는 감압 부재 및;상기 기판 처리 유닛과 상기 감압 부재 사이에 배치되며 상기 흄(Fume)을 수집하는 흄 수집부를 포함하는 기판 처리 장치.
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