선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
출원번호 | 10-2010-0101022 (2010-10-15) |
등록번호 | 10-1056838-0000 (2011-08-08) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100101022 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2010-10-15) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 폴리실라잔 용액 및 이의 제조방법은 1H-NMR 스펙트럼 상에서 SiH 및 SiH2피크의 총면적에 대한 SiH3피크의 면적비가 0.56 내지 0.75인 폴리실라잔을 포함하는 폴리실라잔 용액을 제공한다.상기 폴리실라잔 용액을 반도체 갭필용 도포액 등의 절연막으로 적용시에 식각비가 우수하면서도 SiO2 전환률을 높여서 치밀한 막을 형성할 수 있고, 막의 수축률을 감소시킬 수 있으며, 도포 균일성을 높일 수 있다.
삭제
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.