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폴리실라잔 용액 및 이의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C08L-083/16
  • C08G-077/62
  • H01B-003/46
  • C09D-183/16
출원번호 10-2010-0101022 (2010-10-15)
등록번호 10-1056838-0000 (2011-08-08)
DOI http://doi.org/10.8080/1020100101022
발명자 / 주소
  • 정재선 / 대전광역시 유성구 송강동 송강그린아파트 ***동 ****호
  • 박용주 / 충청남도 공주시 검상동 ***-** 제*기숙사 ***호
  • 이상경 / 경기도 용인시 기흥구 구갈동 ***-* 구갈풍림고층아파트 ***호
  • 한성원 / 서울특별시 노원구 상계*동 한신*차아파트 *동 ***호
  • 유창진 / 충청남도 공주시 검상동 ***-*
출원인 / 주소
  • 테크노세미켐 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 수내동 **-* 휴맥스빌리지 *층
대리인 / 주소
  • 특허법인 천지
심사청구여부 있음 (2010-10-15)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명의 폴리실라잔 용액 및 이의 제조방법은 1H-NMR 스펙트럼 상에서 SiH 및 SiH2피크의 총면적에 대한 SiH3피크의 면적비가 0.56 내지 0.75인 폴리실라잔을 포함하는 폴리실라잔 용액을 제공한다.상기 폴리실라잔 용액을 반도체 갭필용 도포액 등의 절연막으로 적용시에 식각비가 우수하면서도 SiO2 전환률을 높여서 치밀한 막을 형성할 수 있고, 막의 수축률을 감소시킬 수 있으며, 도포 균일성을 높일 수 있다.

대표청구항

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