[특허]반도체 제조설비의 정전척

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반도체 제조설비의 정전척 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC9판)	H01L-021/687 B23Q-003/15 H02N-013/00
출원번호	10-2010-0104929 (2010-10-26)
공개번호	10-2012-0043574 (2012-05-04)
등록번호	10-1246670-0000 (2013-03-18)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020100104929
발명자 / 주소	전영재 / 경기도 용인시 처인구 한터로*번길 , *동 **호 (고림동, 예원마을 코아루아파트)
출원인 / 주소	주식회사 템네스트 / 경기도 화성시 정남면 용수리 -*
대리인 / 주소	한라특허법인
심사청구여부	있음 (2010-10-26)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 반도체 소자의 제조에 이용되는 웨이퍼 고정용 정전척(Electrode Static Chuck;ESC)에 관한 것이다.본 발명은 웨이퍼의 에지부분과 근접되어 있는 포커스링측으로 냉각매체를 공급하는 방식으로 웨이퍼 에지부분을 냉각하여 웨이퍼의 중앙부분과 에지부분의 온도편차를 줄일 수 있는 새로운 형태의 냉각 시스템을 구현함으로써, 웨이퍼 전반에 걸쳐 균일한 온도 분포를 유지할 수 있고, 이에 따라 웨이퍼 수율 향상을 기대할 수 있는 반도체 제조설비의 정전척을 제공한다.

대표청구항 ▼

상하 결합되는 정전척 본체(11) 및 베이스(10)와, 상기 정전척 본체(11)의 가장자리 둘레를 따라 배치되는 포커스링(12) 및 이 포커스링(12)을 고정하기 위한 고정링(13)과 고정블럭(14)을 포함하는 반도체 제조설비의 정전척에 있어서,상기 포커스링(12)의 저면을 받쳐주고 있는 고정블럭(14)에는 베이스(10)를 거쳐 내부 상단측까지 연장되는 냉각통로(18)를 형성하는 동시에 이 냉각통로(18)에 냉각매체를 공급함으로써, 공정 중 포커스링(12)의 온도를 조절하여 웨이퍼 에지부분의 온도를 조절할 수 있도록 하며, 상기 고정블럭(14)은 상단을 통해 포커스링(12)의 저면과 접하는 동시에 하단을 통해 베이스(10)의 상면과 접하는 구조로 배치되고, 상기 냉각통로(18)는 베이스(10)의 내부를 가로지르는 수평구간(18a)과, 상기 수평구간(18a)과 연결되면서 고정블럭(14)의 내부로 수직 연장되는 블럭측 수직구간(18b)과, 상기 수직구간(18b)의 상단과 연결되면서 고정블럭(14)의 내부 상단측에서 수평 연장되는 동시에 포커스링(12)의 저면과 나란하게 배치되는 블럭측 수평구간(18c)으로 이어지는 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 정전척.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

[일본] MOUNTING DEVICE FOR OBJECT | NAGAIWA TOSHIFUMI, SEKIZAWA SHUEI, IMAFUKU KOSUKE, OYABU ATSUSHI
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이 특허를 인용한 특허 (4)

[한국] 기판 처리장치 | 최정수, 신영식, 홍성준
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[한국] 정전 척 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 | 이재현, 권상동, 김태화, 박민준
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[한국] 플라즈마 처리 장치 | 노영진, 김경선, 심승보, 이용우, 임지수, 최원영
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[한국] 플라즈마 챔버에서 사용하기 위한 링 구조체들 및 시스템들 | 켈로그, 마이클, 씨., 메이스, 아담, 마라크타노브, 알렉세이, 홀란드, 존, 첸, 지강, 코자케비치, 펠릭스, 매튜스킨, 알렌산더
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관련 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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