초록 ▼

본 발명은 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 외주로부터 표면 외주연을 향해 경사져 있는 한변이 6인치(152 mm)인 정사각형의 합성 유리 기판으로서, 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 평탄도가 50 nm 이하, 표면 중앙 148 mm×148 mm 정사각형 내이며 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형 부분을 제외한 프레임 부분의 평탄도가 150 nm 이하인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판을 제공한다. 본 발명의 합성 석영 유리 기판에 따르면, 광리소그래피법 등으로 사용되는 포토마스크용 합성

본 발명은 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 외주로부터 표면 외주연을 향해 경사져 있는 한변이 6인치(152 mm)인 정사각형의 합성 유리 기판으로서, 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 평탄도가 50 nm 이하, 표면 중앙 148 mm×148 mm 정사각형 내이며 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형 부분을 제외한 프레임 부분의 평탄도가 150 nm 이하인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판을 제공한다. 본 발명의 합성 석영 유리 기판에 따르면, 광리소그래피법 등으로 사용되는 포토마스크용 합성 석영 유리 기판 등에서 보다 미세한 묘화를 행할 때에 요구되고 있는, 기판 표면의 평탄도가 양호하며, 저결함이고 면조도가 작은 것으로서 활용할 수 있다.또한, 스퍼터 장치에 장착하여 흡착을 행했을 때에도, 기판 표면의 평탄도가 EUVL의 유효 범위 내에서 사용할 때의 요구 스펙을 만족시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형을 포함하는 표면 중앙 142 mm×142 mm 정사각형을 포함하는 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 외주로부터 표면 외주연을 향해 경사져 있는 한변이 6인치(152 mm)인 정사각형의 합성 유리 기판으로서,표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 평탄도가 50 nm 이하, 표면 중앙 148 mm×148 mm 정사각형 내이며 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형 부분을 제외한 프레임 부분의 평탄도가 150 nm 이하이고,상기 합성 석영 유리 기판에서의 표면 중앙 1

표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형을 포함하는 표면 중앙 142 mm×142 mm 정사각형을 포함하는 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 외주로부터 표면 외주연을 향해 경사져 있는 한변이 6인치(152 mm)인 정사각형의 합성 유리 기판으로서,표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형의 평탄도가 50 nm 이하, 표면 중앙 148 mm×148 mm 정사각형 내이며 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형 부분을 제외한 프레임 부분의 평탄도가 150 nm 이하이고,상기 합성 석영 유리 기판에서의 표면 중앙 132 mm×132 mm 정사각형 영역의 평균 평면이, 상기 프레임 부분의 영역의 표면 평균 평면보다도 50nm ~ 100 nm 높은 위치에 있고, 상기 합성 석영 유리 기판을 스테퍼에 장착하여 합성 석영 유리 기판의 표면 외주연보다 내측 2 mm와 내측 5 mm의 사이인 3 mm의 범위 내에서 흡착을 행했을 때, 표면 중앙 142 mm×142 mm 정사각형 영역의 평탄도가 50 nm 이하이고, 상기 합성 석영 유리 기판의 이면의 표면 중앙 142 mm×142 mm 정사각형 영역의 평탄도가 500 nm 이하인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판.