[특허]빛의 인텐시티를 컨트롤할 수 있는 컨트롤 모듈 미러를 갖는 반사형 포토리소그래피 설비

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[한국특허] 빛의 인텐시티를 컨트롤할 수 있는 컨트롤 모듈 미러를 갖는 반사형 포토리소그래피 설비
Reflective Photolithography Apparatus Having a control module mirror being configured to control light intensity 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC9판)	H01L-021/027 G03F-007/20
출원번호	10-2012-0014398 (2012-02-13)
공개번호	10-2013-0092843 (2013-08-21)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020120014398
발명자 / 주소	심우석 / 경기도 오산시 갈곶동 오산KCC스위첸아파트 *동 **호
출원인 / 주소	삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
대리인 / 주소	박상수
심사진행상태	취하(심사미청구)
법적상태	취하

초록 ▼

극자외선을 생성할 수 있는(configured to generate) 광원, 상기 광원으로부터 생성된 빛을 받아 반사할 수 있는(configured to receive and reflect) 조영 미러 시스템, 상기 조영 미러 시스템으로 반사되는 빛을 받아 일부를 통과 시키고 일부를 차단하는(configured to receive, pass, and shut) 블라인더, 상기 노광 슬릿을 통과한 빛을 받아 반사할 수 있는 반사형 레티클이 장착될 수 있도록 상기 노광 슬릿 상에(above) 배치되는 레티클 스테이지, 상기 레티클 스테이지 상에 장착된 반사형 레티클로부터 상기 노광 슬릿을 다시 통과한 빛을 받아 웨이퍼 상로 반사할 수 있는 투사 미러 시스템, 및 상기 투사 미러 시스템으로부터 빛을 받아 패턴이 형성되는 웨이퍼가 안착될 수 있는 웨이퍼 스테이지를 포함하고, 상기 조영 미러 시스템은, 상기 빛을 다수 개의 영역으로 나누어 각 영역 별로 인텐시티를 다르게 할 수 있는 다수 개의 단위 컨트롤 미러들을 갖는 컨트롤 모듈 미러를 최후단에 포함하는 반사형 포토리소그래피 설비가 설명된다.

대표청구항

광원;다수 개의 조영 미러들 및 컨트롤 모듈 미러를 갖는 조영 미러 시스템, 상기 컨트롤 모듈 미러는 다수 개의 단위 컨트롤 미러들을 포함하고;레티클 스테이지;투사 미러를 포함하는 투사 미러 시스템; 및웨이퍼 스테이지를 포함하는 반사형 포토리소그래피 설비.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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