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연합인증

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반도체 제조용 트랩장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/02
출원번호 10-2012-0036257 (2012-04-06)
공개번호 10-2013-0113781 (2013-10-16)
등록번호 10-1362437-0000 (2014-02-06)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120036257
발명자 / 주소
  • 정순빈 / 경기도 오산시 양산로 *** 세마e-편한세상아파트 ***동 ****호
출원인 / 주소
  • (주)아인스 / 경기도 오산시 황새로***번길 **-**, 외 *필지 (누읍동)
대리인 / 주소
  • 천성훈
심사청구여부 있음 (2012-04-06)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

포획성이 향상된 반도체 제조용 트랩장치가 개시된다. 개시된 본 발명에 의한 반도체 제조용 트랩장치는, 반도체 제조 환경을 제공하는 처리챔버로부터 공기를 펌핑하는 진공펌프에 의해 배기되는 가스 중 부산물을 포획하기 위한 반도체 제조용 트랩장치에 있어서, 상기 처리챔버와 진공펌프 사이에 배치되어, 상기 가스의 부산물을 포획하는 비금속성 재질로 이루어진 플라즈마 트랩유닛과, 상기 플라즈마 트랩유닛의 내부 공간에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생장치를 포함한다.

대표청구항

반도체 제조 환경을 제공하는 처리챔버로부터 공기를 펌핑하는 진공펌프에 의해 배기되는 가스 중 부산물을 포획하기 위한 반도체 제조용 트랩장치에 있어서, 상기 처리챔버와 진공펌프 사이에 배치되어, 상기 가스의 부산물을 포획하는 비금속성 재질로 이루어진 플라즈마 트랩유닛; 상기 플라즈마 트랩유닛의 내부 공간에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생장치; 및상기 플라즈마 트랩유닛 내부에 지그재그 형상으로 설치되어서, 상기 플라즈마 트랩유입으로 유입되는 부산물의 흐름을 가이드하는 비금속 재질의 가이드 판;을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법 | 고바야시 마사히코, 다카하시 노부유키
  2. [한국] 반도체 제조 장비의 반응 부산물 포집장치 | 최상철, 김정섭, 윤수동
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