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연합인증

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하드 로이 유리 제조장치 및 이를 이용한 하드 로이 유리 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C03C-017/06
  • B05D-001/02
  • C03C-017/23
  • C03C-004/00
출원번호 10-2012-0068240 (2012-06-25)
공개번호 10-2014-0006135 (2014-01-16)
등록번호 10-1544070-0000 (2015-08-06)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120068240
발명자 / 주소
  • 이종호 / 충남 천안시 서북구 입장면 양대기로길 **, 한국생산기술연구원
출원인 / 주소
  • 한국생산기술연구원 / 충청남도 천안시 서북구 입장면 양대기로길 **
대리인 / 주소
  • 손민
심사청구여부 있음 (2012-06-25)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 유리기판에 TCO(Transparent Conductive Oxide) 용액을 분무하여 증착하는 하드 로이 유리 제조장치에 있어서, 진공챔버를 조성하는 진공펌프, 유리기판을 가열하는 히팅판, 및 히팅판에 의해 가열된 유리기판에 TCO 용액을 분무하는 노즐을 포함하는 초음파 분무기를 포함하며, 유리기판, 히팅판, 및 노즐은 진공챔버 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 하드 로이 유리 제조장치에 관한 것이다.또한, 유리기판에 TCO 용액을 분무하여 증착하는 하드 로이 유리 제조방법에 있어서, (a) 유리기판이 글로브 박스 내에

대표청구항

유리기판에 투명 전극 산화막(Transparent Conductive Oxide; TCO) 용액을 분무하여 증착하는 하드 로이 유리 제조장치에 있어서,진공챔버 내부를 진공 상태로 유지시켜 이로 인해 투명 전극 산화막 내 비결합 산소의 양을 감소시킴으로써 하드 로이 유리의 투명도를 높이면서 면 저항을 낮추어 단열 성능을 높이게 하는 진공펌프;상기 유리기판을 가열하는 히팅판; 및상기 히팅판에 의해 가열된 유리기판에 상기 투명 전극 산화막 용액을 분무하는 노즐을 포함하는 초음파 분무기를 포함하며,상기 유리기판, 상기 히팅판, 및 상기 초

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 초음파분 무법에 의한 산화아연계 및 산화아연/산화주석이 중층 투명전 도막의 제조방법 | 송진수, 윤경훈
  2. [한국] 모재 내·외측면 투명전도막 코팅방법과 이를 이용한 원통형 히터 모듈, 온풍 공급장치, 온수 공급장치 및 온풍 온수 공급시스템 | 고양미
  3. [일본] FILM DEPOSITION APPARATUS, SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD | HOSHINO SATOHIKO

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 액체 재료 토출 장치, 그 도포 장치 및 도포 방법 | 이쿠시마 가즈마사
  2. [한국] 액체 재료 토출 장치, 그 도포 장치 및 도포 방법 | 이쿠시마 가즈마사
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