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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0098966 (2020-08-07) | |
공개번호 | 10-2022-0018662 (2022-02-15) | |
등록번호 | 10-2430134-0000 (2022-08-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200098966 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-08-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 등의 제조공정에서 발생하는 유해가스를 제거하는 스크러버에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 히팅챔버를 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 있어서, 상기 히팅챔버를 거친 유해가스를 냉각하고 상기 유해가스에 포함된 파우더가 내주면에 쌓이는 것을 방지하도록 워터막을 형성하는 쿨링유닛을 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 의해 달성된다. 이에 따라, 워터막을 형성함으로써 유해가스의 파우더가 쌓이는 것을 방지할 수 있으며, 쿨링유닛의 내면이 산화되어 부식되는 것을 방지할 수 있다.
히팅챔버를 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 있어서,상기 히팅챔버를 거친 유해가스를 냉각하고 상기 유해가스에 포함된 파우더가 내주면에 쌓이는 것을 방지하도록 워터막을 형성하는 쿨링유닛;을 포함하되,상기 쿨링유닛은,상기 히팅챔버와 결합하고 하부에 물을 주입하는 적어도 하나의 주입구를 마련하는 외부하우징과, 상기 외부하우징의 내부에 상기 외부하우징과 인접한 주입공간을 형성하는 내부하우징과, 상기 주입공간으로 주입된 물을 분사시켜 워터막을 형성하는 노즐부와, 상기 주입공간과 상기 노즐부 사이에 마련되는 회전수단을 포함하고,상기 회전수단
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