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삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C01B-007/19
  • C01B-021/083
  • B01D-053/02
  • B01J-019/24
출원번호 10-2012-0156888 (2012-12-28)
등록번호 10-1320794-0000 (2013-10-15)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120156888
발명자 / 주소
  • 조백인 / 서울특별시 서초구 방배동 ***-** 롯데캐슬로제 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 오씨아이머티리얼즈 주식회사 / 경북 영주시 상줄동 **-*
대리인 / 주소
  • 김 순 영; 김영철
심사청구여부 있음 (2012-12-28)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 NF3 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 HF의 회수장치 및 회수방법에 관한 것이다.  본 발명은 NF3 가스의 제조 시 양극/음극 가스에 발생된 산성불화암모늄을 제거하는 불화물 제거 유닛; 및 상기 양극/음극 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛을 포함하고, 상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치된 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치를 제공한다.  또한, 본 발명은 NF3 가스의 제조 시 양극/음극 가스에 포함된 산성불화암모늄을 제거하는 전처리단계; 및 상기 양극/음극 가

대표청구항

NF3 가스의 제조 시 양극에서 발생된 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거하는 불화물 제거 유닛; 및 상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛;을 포함하여 구성되는 HF 회수장치로서,상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치되되,HF를 1차 냉각시키는 제1열교환기; 상기 제1열교환기의 후단에 설치되고, 상기 1차 냉각된 HF를 2차 냉각하여 액화시키는 제2열교환기; 상기 제2열교환기의 하단에 설치되고, 상기 액화된 HF를 포집하는 HF 포집부; 및 상기 HF 포집부에 포집된

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 삼불화질소 가스에 포함된 이불화이질소의 제거장치 | 정순천
  2. [일본] METHOD OF REFINING HIGH PURITY NF3 GAS | MOROKUMA TATSUMA, SUMI TETSUO, HAYASHIDA HIROMI
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