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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2013-0013889 (2013-02-07) | |
등록번호 | 10-1272736-0000 (2013-06-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130013889 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-02-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 정전척 재생 방법에 관한 것으로서, 재생 가공 후라도 유전층 표면에서 전극층까지의 거리에 변화가 없도록 하여 재생 횟수를 늘릴 수 있고, 특히 척킹력 등 정전척 역할을 하도록 하는 전기적 작용 및 특성의 변화없이 정전척 표면 부위를 완벽히 재생할 수 있는 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 유전층의 표면이 손상된 정전척을 준비하는 정전척 준비 단계; 손상된 유전층의 표면을 평탄하게 가공하는 평탄화 작업 단계; 유전층의 표면을 마스크를 사용하여 마스킹한 뒤 블라스트 가공하
유전층의 표면이 손상된 정전척을 준비하는 정전척 준비 단계;손상된 유전층의 표면을 평탄하게 가공하는 평탄화 작업 단계;유전층의 표면을 마스크를 사용하여 마스킹한 뒤 블라스트 가공하여 평탄화 작업으로 얕아진 엠보싱 돌기들 사이의 패턴 홈의 깊이를 깊게 만들어주는 패턴 홈 깊이 조정 단계;상기 유전층의 상부에 에어로졸 세라믹 코팅막을 형성하는 단계; 및 상기 에어로졸 세라믹 코팅막의 표면 평탄도 및 조도를 조정하기 위한 후속 가공을 하는 평탄도 및 조도 조정 단계;를 포함하는 에어로졸 코팅을 이용한 정전척 재생 방법.
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