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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0014459 (2013-02-08) |
공개번호 | 10-2014-0101156 (2014-08-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130014459 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(재심사) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 신너 조성물 및 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명에 따른 신너 조성물은 다양한 종류의 포토레지스트에 대한 우수한 용해력과 적정한 휘발성을 가져, 에지 비드 제거 공정 등에서 불필요하게 부착된 포토레지스트를 단시간에 효율적으로 제거할 수 있을 뿐 아니라, 반도체 기판의 프리웨팅 공정 등에 적용되어 적은 양의 포토레지스트로도 효율적인 감광막의 형성을 가능케 한다.
1-메톡시-2-프로판올 아세테이트; 및에틸렌 글리콜 프로필 에테르를 포함하는 신너 조성물.
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