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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2013-0023761 (2013-03-06) | |
| 공개번호 | 10-2014-0109610 (2014-09-16) | |
| 등록번호 | 10-2064914-0000 (2020-01-06) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020130023761 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2018-01-30) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
식각 장치 및 식각 방법에서, 식각 방법은 식각 챔버 내에, 전극 플레이트 및 절연 코팅막이 적층된 적층 구조물 상에 기판을 로딩한다. 상기 식각 챔버 내에 플라즈마를 생성시킨다. 상기 기판의 제1 부위들에 전극 로드들을 직접 접촉하여 제1 직류 펄스를 인가한다. 상기 전극 플레이트와 대향하는 기판의 제2 부위의 전위가 조절되도록, 상기 전극 플레이트에 제2 직류 펄스를 인가한다. 또한, 상기 제1 및 제2 직류 펄스에 의해, 상기 기판 방향으로 반응성 이온을 가속시켜 상기 기판에 형성된 막 또는 기판을 식각한다. 상기 식각 방법에
식각 챔버; 상기 식각 챔버 내에 구비되는 플라즈마 생성부; 상기 식각 챔버 하부에 구비되고, 전극 플레이트 및 상기 전극 플레이트의 상부면을 덮는 절연성 코팅막이 적층되고, 상기 절연성 코팅막의 상부면에 기판이 로딩되는 적층 구조물; 상기 적층 구조물의 상부면으로부터 하부면까지 관통하고, 상기 적층 구조물과 이격되도록 구비되고, 상기 기판에 직접 접촉되는 전극 로드들; 상기 전극 로드들에 인가되는 직류 펄스를 생성하는 제1 직류 펄스 발생기; 상기 전극 플레이트에 인가되는 직류 펄스를 생성하는 제2 직류 펄스 발생기; 상기 제1
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