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연합인증

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[한국특허] 반사 셔터와 이를 구비한 열처리 장치 및 이를 이용한 열처리 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G02F-001/13
  • C03B-027/00
  • H01L-051/56
출원번호 10-2013-0050704 (2013-05-06)
공개번호 10-2014-0131738 (2014-11-14)
등록번호 10-1540931-0000 (2015-07-27)
DOI http://doi.org/10.8080/1020130050704
발명자 / 주소
  • 김형준 / 서울특별시 강남구 압구정로**길 **, *동 ****호(압구정동, 미성아파트)
  • 김병국 / 경기 수원시 영통구 광교로 ***, ****동 ***호 광교택지개발지구 (이의동, 휴먼시아아파트)
  • 김현수 / 경기도 수원시 권선구 금호로 **번길 **, ***동 ***호(금곡동,신미주아파트)
  • 한맹군 / 경기 수원시 영통구 영일로 **-**, ***호 (영통동)
  • 박승호 / 서울 양천구 목동서로 **, ***동 ***호 (목동, 목동*단지아파트)
출원인 / 주소
  • 주식회사 비아트론 / 경기도 수원시 권선구 산업로***번길 ***(고색동)
대리인 / 주소
  • 김호종
심사청구여부 있음 (2013-05-06)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은 챔버 본체에 적어도 2개의 배출 영역으로 구분되도록 형성되는 배출부에 결합되며, 상기 배출 영역의 적어도 어느 하나가 선택적으로 개방되도록 상기 배출부를 차단하는 상부 반사 셔터 및 하부 반사 셔터를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 셔터 및적어도 한 장의 유리 기판이 적층되어 단위 적층 높이를 갖는 단위 적층층이 적어도 2개 층으로 적층되는 열처리 공간을 구비하며, 일측에 상기 단위 적층층들의 단위 적층 높이의 합인 전체 적층 높이보다 큰 높이로 형성되어 적어도 상기 단위 적층 높이에 대응되는 배출 영역 높이를 갖는 적

대표청구항

유리 기판이 장입 또는 배출되는 배출부를 구비하는 챔버 본체의 열처리 공간에서 상기 유리 기판이 열처리되는 동안에 상기 배출부를 차단하는 메인 셔터가 이송되어 상기 배출부가 개방될 때, 상기 메인셔터에 의하여 개방된 상기 배출부를 차단한 후, 상기 유리 기판이 장입 또는 배출될 때 상기 배출부를 개방하며, 상기 배출부와 대향하는 면에 복사에너지를 반사하는 반사판을 구비하는 반사 셔터에 있어서,상기 반사 셔터는 한 개로 형성되고,상기 반사 셔터는 상단부 또는 하단부를 중심으로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하여 상기 배출부를 개

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 열적 완충 영역을 갖춘 베이킹 장치 | 서전석, 강현재
  2. [한국] 열차단 셔터를 구비한 반도체소자 제조용 베이크 장치 | 서용원
  3. [한국] 챔버 지지용 프레임 | 허관선
  4. [일본] HEAT TREATMENT APPARATUS | HISAI AKIHIRO, GOTO SHIGEHIRO
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